[发明专利]光刻胶剥离液及剥离装置

权利要求书

1.一种光刻胶剥离液，其特征在于，所述光刻胶剥离药液包括分子量在1000以下的化合物A，所述化合物A的分子结构包括至少一疏水基以及至少一与所述疏水基连接的亲水基；其中，所述亲水基为中性或弱碱性基团，所述疏水基为取代或未取代的直链或支链烷基、环烷基或芳香基。

2.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述疏水基选自8-20个碳原子的直链或支链烷烃、8-16个碳原子的环状烷基或8-16个碳原子的苯基中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的光刻胶剥离液，其特征在于，所述亲水基选自氨基、酰胺基、羟基、醚氧基、磺酸基或羧基中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的光刻胶剥离药剂，其特征在于，所述光刻胶剥离液呈中性或弱碱性。

5.一种剥离装置，用于去除基板上的光刻胶，所述剥离装置包括剥离单元和水洗单元，所述基板依次进入所述剥离单元和所述水洗单元中进行一次剥离过程和水洗过程，其特征在于，在所述剥离单元和所述水洗单元之间设置一过渡单元，所述过渡单元为对所述基板进行二次剥离过程的场所，并且所述过渡单元内设置有用于二次剥离过程的第二剥离液，所述第二剥离液为权利要求1-4中任一项所述的光刻胶剥离液。

6.根据权利要求5所述的剥离装置，其特征在于，所述剥离单元和/或所述过渡单元包括一排气装置，所述排气装置包括：

一排气罩，所述排气罩一端部具有一排气口以及环设在所述排气口外围的内凹槽；其中所述排气口用于将所述剥离单元和/或所述过渡单元的药液蒸汽导入所述排气罩内，所述内凹槽用于收集由进入所述排气罩内的药液蒸汽冷凝形成的药液；以及，

一导流管道，与所述内凹槽相连通，用于将所述内凹槽内的药液导出。

7.根据权利要求5所述的剥离装置，其特征在于，所述剥离单元包括用于对所述基板进行一次剥离过程的第一剥离液，所述第一剥离液与第二剥离液相同。

8.根据权利要求5所述的剥离装置，其特征在于，所述过渡单元包括：

一过渡腔室，用于容纳所述基板并允许所述基板进出；

一第二药液槽，用于盛放所述第二剥离液；

一入口风刀，用以去除进入所述过渡腔室内的所述基板上的经所述第一剥离过程残留的药液；

一喷淋装置，与所述第二药液槽连接，用以向容纳于所述过渡腔室的所述基板喷洒所述第二剥离液；以及，

第二出口风刀，用于去除所述基板上残留的所述第二剥离液。

9.根据权利要求8所述的剥离装置，其特征在于，所述过渡单元还包括入口液刀，所述入口液刀与所述第二药液槽连接，用于向容纳于所述过渡腔室的所述基板喷洒所述第二剥离液。

10.根据权利要求8所述的剥离装置，其特征在于，所述过渡单元还包括一pH调节装置，所述pH调节装置与所述第二药液槽连接，用于调节所述第二剥离液的pH值。