[发明专利]一种半导体生产中废水处理系统

权利要求书

1.一种半导体生产中废水处理系统，其特征在于：其结构包括回用处理池(1)、废水处理池(2)、固定框架(3)，所述回用处理池(1)与废水处理池(2)均安装在固定框架(3)内，所述废水处理池(2)的出水端与回用处理池(1)相通，所述废水处理池(2)包括池口(21)、投放机构(22)、池槽(23)、甲板(24)、出液口(25)，所述池口(21)与池槽(23)、出液口(25)为一体化结构，所述池口(21)的内部设置有投放机构(22)，所述池槽(23)的表面两侧用甲板(24)固定安装，所述投放机构(22)的底部通于池槽(23)。

2.根据权利要求1所述的一种半导体生产中废水处理系统，其特征在于：所述投放机构(22)组成有活动封口件(221)、转筒(222)、腔口(223)、内边条(224)、摆片(225)、导料槽(226)、排料口(227)、连杆(228)，所述活动封口件(221)的一端安装在内边条(224)上，另一端与腔口(223)固定，所述腔口(223)为活动式圆形结构，所述腔口(223)的内部设置有转筒(222)与摆片(225)、导料槽(226)，所述摆片(225)通过表面设有的连杆(228)与转筒(222)机械连接，所述腔口(223)的底部开设有排料口(227)。

3.根据权利要求2所述的一种半导体生产中废水处理系统，其特征在于：所述导料槽(226)用摆片(225)形成双向开口结构，其中入口为单开口与池口(21)相通，出口为双开口通过排料口(227)通于池槽(23)。

4.根据权利要求2所述的一种半导体生产中废水处理系统，其特征在于：所述腔口(223)设有内伸边(23a)、隔绝套口(23b)、导管(23c)，所述内伸边(23a)通过活动封口件(221)活动配合于隔绝套口(23b)内部，所述导管(23c)的一端接于活动封口件(221)的内部，另一端接于腔口(223)内部与摆片(225)配合。

5.根据权利要求2或4所述的一种半导体生产中废水处理系统，其特征在于：所述活动封口件(221)由封口(21a)、充气囊(21b)、卡座(21c)、连接轮(21d)、拉簧(21e)组成，所述封口(21a)与内伸边(23a)固定，所述充气囊(21b)固定在拉簧(21e)与封口(21a)之间，所述拉簧(21e)相对充气囊(21b)的一端与连接轮(21d)连接，所述连接轮(21d)机械连接在卡座(21c)上。

6.根据权利要求5所述的一种半导体生产中废水处理系统，其特征在于：所述卡座(21c)固定在内边条(224)上，且卡座(21c)与池口(21)上端处于同一水平面。

7.根据权利要求5所述的一种半导体生产中废水处理系统，其特征在于：所述封口(21a)包括连接垫层(1a1)、压座(1a2)，所述连接垫层(1a1)固定在内伸边(23a)上，所述压座(1a2)接于连接垫层(1a1)与充气囊(21b)之间。

8.根据权利要求3所述的一种半导体生产中废水处理系统，其特征在于：所述摆片(225)上固定有抵触滑块(a)，该抵触滑块(a)与设在隔绝套口(23b)表面内壁的蓄气口(b)接触配合。