[发明专利]一种沉积Al2

权利要求书

1.一种沉积Al₂O₃陶瓷层的方法，其特征在于：该方法的步骤如下：

步骤一、表面处理：

采用砂纸对钼和钽合金表面进行打磨以去除表面覆盖物，之后对其表面进行细打磨或抛光，使其表面平整，最后进行乙醇超声除油；

步骤二、微弧氧化预处理：

以钼或钽合金作为阴极，不锈钢片作为阳极平行置于乙醇溶液电解液中，利用等离子微弧氧化电源进行微弧氧化处理；

所述乙醇溶液电解液的化学组分及浓度为：Al(NO₃)₃﹒9H₂O 0.4mol/L；

所述微弧氧化处理的工艺参数为：脉冲频率50-100Hz，占空比20-50％，电流密度5-12A/dm²，电压500-800V，温度10-20℃，恒压下反应时间10-30min；

步骤三、后处理：

电解沉积完成后，用离子水冲洗钼或钽合金2-3min，再自然风干。

2.根据权利要求1所述的沉积Al₂O₃陶瓷层的方法，其特征在于：步骤一中所述乙醇超声除油是将钼或钽合金入置于装有乙醇中，在超声波下震荡后用去离子水冲洗。

3.根据权利要求1所述的沉积Al₂O₃陶瓷层的方法，其特征在于：步骤一中所述砂纸为400#-1500#水磨砂纸。

4.根据权利要求1所述的沉积Al₂O₃陶瓷层的方法，其特征在于：所述微弧氧化处理的温度为16℃、反应时间为30min，Al₂O₃陶瓷涂层平均厚度为96μm。

5.根据权利要求4所述的沉积Al₂O₃陶瓷层的方法，其特征在于：所述Al₂O₃陶瓷涂层表面显微维氏平均硬度为980HV。

6.根据权利要求1所述的沉积Al₂O₃陶瓷层的方法，其特征在于：所述微弧氧化处理的温度为14℃、反应时间为25min，Al₂O₃陶瓷涂层平均厚度为84μm。

7.根据权利要求6所述的沉积Al₂O₃陶瓷层的方法，其特征在于：所述Al₂O₃陶瓷涂层表面显微维氏平均硬度为920HV。

8.根据权利要求1所述的沉积Al₂O₃陶瓷层的方法，其特征在于：所述微弧氧化处理的温度为20℃、反应时间为30min，Al₂O₃陶瓷涂层平均厚度为92μm。

9.根据权利要求8所述的沉积Al₂O₃陶瓷层的方法，其特征在于：所述Al₂O₃陶瓷涂层表面显微维氏平均硬度为880HV。