[发明专利]一种耐迁移耐高温,减少颜料和助剂用量的色母专用改性剂在审
申请号: | 202010404613.7 | 申请日: | 2020-05-16 |
公开(公告)号: | CN113683826A | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 林楚越 | 申请(专利权)人: | 上海冠旗电子新材料股份有限公司 |
主分类号: | C08L23/06 | 分类号: | C08L23/06;C08K13/02;C08K3/04;C08K3/36;C08J3/22;C08L23/12;C08L55/02;C08L25/06;C08L27/06;C08L23/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 200333 上海市普陀区曹杨*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 迁移 耐高温 减少 颜料 助剂 用量 专用 改性 | ||
发明名称:一种耐迁移耐高温,减少颜料和助剂用量的色母专用改性剂。所属技术领域:工程塑料改性领域。所解决的技术问题:使颜料、分散剂和载体的相互兼容,提高色母粒中颜料含量和着色效率。并且在降低色母行业中色母的制备成本,还能同时增加耐高温,耐迁移性能。主要技术特征:本发明以使用无机无机原位聚合包覆,再有机无机杂化后的形成核壳结构为主要技术特征。发明用途:降低色母行业中色母的制备成本,改善加工条件,扩大色母应用范围。
技术领域
本发明属于工程塑料改性领域,具体涉及一种耐高温耐迁移改性剂。更具体而言,本发明涉及一种耐迁移耐高温,减少颜料和助剂用量的色母专用改性剂。
背景技术
高浓度色母粒是当下色母行业的潮流和趋势,色母粒中颜料含量越高,分散越困难,所以对颜料的要求(主要是微细化和可分散性)越来越高。因此,开发新型、高效、微细化、易分散、无毒和稳定性良好的颜料是未来的发展趋势。颜料含量愈高的母料,制造难度愈大。色母粒技术发展的核心在于颜料、分散剂和载体的相互兼容,提高色母粒中颜料含量和着色效率。
无机纳米材料应用于聚合物改性中,不仅可以起到降低成本的作用,还可以增加聚合物基体的韧性和强度,耐高温、耐迁移。同样,无机纳米材料也被应用于色母粒行业中,解决行业通病。
发明内容
本发明公开了一种耐迁移耐高温,减少颜料和助剂用量的色母专用改性剂。本发明的目的是为了降低色母行业中色母的制备成本,同时增加耐高温,耐迁移性能,改善加工条件以及扩大色母应用范围。
为了实现上述目的,本发明的改性剂采用表面处理,再通过改良的色母配方制备得到色母粒,最终通过制品得到。
通过以下详细说明使本发明的目的、特征、结构及优点更加明确。
附图说明
图1为本发明白色粉末状物体图。
具体实施方式
本发明人针对色母中使用的有机助剂和无机助剂的性能进行了具体的研究,结果发现单纯使用有机助剂耐高温、耐迁移性能并不理想,也无法达到降低成本的效果,而单纯的使用无机助剂并不具有良好的分散性。此外市场上有较多的有机材料为主,略带一些无机材料的助剂,从成分上的改变来增加分散性、耐高温、耐迁移性,但是往往与纯有机助剂特性相似,耐高温耐迁移性较为不好,而且有机助剂比较昂贵,同样无法达到降成本的效果。另外,无论有机颜料还是无机颜料本身颗粒较大,而且容易团聚,非常影响颜料的着色力。市场上的助剂由于颗粒大或者分子量高或者不够均一稳定等原因,普遍无法达到完全浸润包覆,所以并不能达到减少颜料用量的效果。因此本发明人展开了进一步的研究得到以下结论:在色母的制备中,使用无机无机原位聚合包覆,再有机无机杂化后的形成核壳结构的助剂,在色母现有使用工艺中对颜料有非常优秀的塑化和分散功能,并可以实现与颜料节枝包覆,良好地充当了颜料的核,提高了着色力和展色性,同时因为原位聚合的无机材料的高折射率,提高了核壳颜料的折射率,提高了颜料色泽、光泽、饱和度,双重手段来减少颜料用量,并且拥有分散性、耐高温、耐迁移性等性能。由此来完成本发明。
在本实施方式中,改性剂为90%~99.9%纯度的二氧化硅,通过研磨,无机无机原位聚合,有机无机杂化,达到一定结构。
研磨过程中,选择天然SiO2或者合成SiO2为原料,加入六偏磷酸钠、碳酸盐、二硅酸钠、烷基苯磺酸盐、聚羧酸钠、聚丙烯酸衍生物、顺丁烯二酸酐共聚物、缩合萘磺酸盐、聚乙烯吡咯酮、聚醚衍生物等一种或一种以上分散剂。并使其在温度50~150℃进行研磨,经过1~3个小时使SiO2粒径到达 500nm~2000nm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海冠旗电子新材料股份有限公司,未经上海冠旗电子新材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010404613.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:阵列基板、其检测方法及拼接显示面板
- 下一篇:探测单元、探测装置及方法