[发明专利]中远红外雪崩光电探测器在审
申请号: | 202010404849.0 | 申请日: | 2020-05-13 |
公开(公告)号: | CN111540797A | 公开(公告)日: | 2020-08-14 |
发明(设计)人: | 黄建亮;马文全 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L31/0304 | 分类号: | H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/107 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 刘歌 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 红外 雪崩 光电 探测器 | ||
1.一种中远红外雪崩光电探测器,其特征在于,包括:
至下而上依次连接的衬底(1)、缓冲层(2)、第一欧姆接触层(3)、倍增层(4)、电荷层(5)、渐变层(6)、吸收层(7)和第二欧姆接触层(8),且所述衬底(1)和缓冲层(2)的掺杂类型为n型;或
至下而上依次连接的衬底(1)、缓冲层(2)、第二欧姆接触层(8)、吸收层(7)、渐变层(6)、电荷层(5)、倍增层(4)和第一欧姆接触层(3),且所述衬底(1)和缓冲层(2)的掺杂类型为p型;
其中,所述倍增层(4)为AlAsxSb1-x材料,且0.12≤x≤0.18,所述渐变层(6)为多个(InAs)m/(AlAs0.15Sb0.85)n量子阱结构或InyAl1-yAszSb1-z材料,所述吸收区(7)的探测波长为中远红外波段。
2.根据权利要求1所述的中远红外雪崩光电探测器,其特征在于,所述倍增层(4)的厚度为0.5微米~1微米,载流子浓度≤1×1016cm-3。
3.根据权利要求1所述的中远红外雪崩光电探测器,其特征在于:
所述渐变层(6)为多个(InAs)m/(AlAs0.15Sb0.85)n量子阱结构时,沿着吸收层(7)向电荷层(5)的方向,其中的InAs的厚度组分m由5纳米减至0纳米,AlAs0.15Sb0.85的厚度组分n由0纳米增至5纳米。
4.根据权利要求1所述的中远红外雪崩光电探测器,其特征在于,所述渐变层(6)为InyAl1-yAszSb1-z材料时,沿着吸收层(7)向电荷层(5)的方向,其中的In的组分y由1减至0,As的组分z由1减至x。
5.根据权利要求1所述的中远红外雪崩光电探测器,其特征在于,所述衬底(1)为InAs或者GaSb衬底。
6.根据权利要求1所述的中远红外雪崩光电探测器,其特征在于,所述缓冲层(2)为InAs或者GaSb材料,厚度为0.3微米~0.5微米。
7.根据权利要求1所述的中远红外雪崩光电探测器,其特征在于:
所述下欧姆接触层(3)的厚度为0.5微米~1微米,掺杂类型为n型,载流子浓度为5×1017cm-3~2×1018cm-3;
所述上欧姆接触层(8)的厚度为0.5微米~1微米,掺杂类型为p型,载流子浓度为5×1017cm-3~2×1018cm-3。
8.根据权利要求1所述的中远红外雪崩光电探测器,其特征在于,所述电荷层(5)为AlAsxSb1-x材料,其厚度为200纳米~1000纳米,掺杂为n型,载流子浓度为1×1017cm-3~1×1018cm-3。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的