[发明专利]中远红外雪崩光电探测器在审

专利信息
申请号: 202010404849.0 申请日: 2020-05-13
公开(公告)号: CN111540797A 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 黄建亮;马文全 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L31/0304 分类号: H01L31/0304;H01L31/0352;H01L31/107
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 刘歌
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 红外 雪崩 光电 探测器
【权利要求书】:

1.一种中远红外雪崩光电探测器,其特征在于,包括:

至下而上依次连接的衬底(1)、缓冲层(2)、第一欧姆接触层(3)、倍增层(4)、电荷层(5)、渐变层(6)、吸收层(7)和第二欧姆接触层(8),且所述衬底(1)和缓冲层(2)的掺杂类型为n型;或

至下而上依次连接的衬底(1)、缓冲层(2)、第二欧姆接触层(8)、吸收层(7)、渐变层(6)、电荷层(5)、倍增层(4)和第一欧姆接触层(3),且所述衬底(1)和缓冲层(2)的掺杂类型为p型;

其中,所述倍增层(4)为AlAsxSb1-x材料,且0.12≤x≤0.18,所述渐变层(6)为多个(InAs)m/(AlAs0.15Sb0.85)n量子阱结构或InyAl1-yAszSb1-z材料,所述吸收区(7)的探测波长为中远红外波段。

2.根据权利要求1所述的中远红外雪崩光电探测器,其特征在于,所述倍增层(4)的厚度为0.5微米~1微米,载流子浓度≤1×1016cm-3

3.根据权利要求1所述的中远红外雪崩光电探测器,其特征在于:

所述渐变层(6)为多个(InAs)m/(AlAs0.15Sb0.85)n量子阱结构时,沿着吸收层(7)向电荷层(5)的方向,其中的InAs的厚度组分m由5纳米减至0纳米,AlAs0.15Sb0.85的厚度组分n由0纳米增至5纳米。

4.根据权利要求1所述的中远红外雪崩光电探测器,其特征在于,所述渐变层(6)为InyAl1-yAszSb1-z材料时,沿着吸收层(7)向电荷层(5)的方向,其中的In的组分y由1减至0,As的组分z由1减至x。

5.根据权利要求1所述的中远红外雪崩光电探测器,其特征在于,所述衬底(1)为InAs或者GaSb衬底。

6.根据权利要求1所述的中远红外雪崩光电探测器,其特征在于,所述缓冲层(2)为InAs或者GaSb材料,厚度为0.3微米~0.5微米。

7.根据权利要求1所述的中远红外雪崩光电探测器,其特征在于:

所述下欧姆接触层(3)的厚度为0.5微米~1微米,掺杂类型为n型,载流子浓度为5×1017cm-3~2×1018cm-3

所述上欧姆接触层(8)的厚度为0.5微米~1微米,掺杂类型为p型,载流子浓度为5×1017cm-3~2×1018cm-3

8.根据权利要求1所述的中远红外雪崩光电探测器,其特征在于,所述电荷层(5)为AlAsxSb1-x材料,其厚度为200纳米~1000纳米,掺杂为n型,载流子浓度为1×1017cm-3~1×1018cm-3

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