[发明专利]一种增益型异质结紫外光电探测器有效
申请号: | 202010405250.9 | 申请日: | 2020-05-14 |
公开(公告)号: | CN111739960B | 公开(公告)日: | 2022-07-26 |
发明(设计)人: | 江灏;宋志远;邱新嘉 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | H01L31/0304 | 分类号: | H01L31/0304;H01L31/112 |
代理公司: | 深圳市创富知识产权代理有限公司 44367 | 代理人: | 吴族平 |
地址: | 510275 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 增益 型异质结 紫外 光电 探测器 | ||
1.一种增益型异质结紫外光电探测器,其特征在于:包括衬底(101)及生长于所述衬底(101)之上的成核层(102)、非故意掺杂AlkGa1-kN缓冲层(103)、AlxGa1-xN组分过渡层(104)、非故意掺杂AlyGa1-yN层(105)、非故意掺杂AlzGa1-zN层(106)、非故意掺杂AlyGa1-yN层(107)、受主掺杂AlmGa1-mN层(108)以及分布于非故意掺杂AlzGa1-zN层(106)上的叉指型接触电极(109),其中Al组分x的起始值≤k,终止值为y,yz;所述非故意掺杂AlyGa1-yN层(105)为二维电子气的沟道层、次级光吸收层,其Al组分y≤k,厚度为0.2-3μm;所述非故意掺杂AlzGa1-zN层(106)为二维电子气的势垒层以及叉指型接触电极的引出层,其Al组分zy,厚度为5-35nm;所述非故意掺杂AlyGa1-yN层(107)为初级光吸收层,厚度为10-100nm;所述受主掺杂AlmGa1-mN层(108),其Al组分m≥y,厚度为20-300nm,层中空穴浓度为1×1017-5×1018cm-3;
所述衬底(101)为蓝宝石、碳化硅、氮化铝、氮化镓或硅衬底;
所述成核层(102)为低温或者高温生长的AljGa1-jN,其中,Al组分j的取值范围为0-1,成核层(102)的厚度为10-100nm;
所述非故意掺杂AlkGa1-kN缓冲层(103),Al组分k的取值范围为0-1,厚度为0.1-2.0μm。
2.如权利要求1所述的一种增益型异质结紫外光电探测器,其特征在于:所述AlxGa1-xN组分过渡层(104)的Al组分为线性变化或分n段台阶变化,其中,n值≤3,Al组分x的起始值≤k,终止值为y,厚度为0-300nm。
3.如权利要求1所述的一种增益型异质结紫外光电探测器,其特征在于:所述叉指型接触电极(109)为欧姆接触电极或低势垒肖特基接触电极;叉指型接触电极中,一边叉指电极为正电极,另一边为负电极,位于非故意掺杂AlzGa1-zN层(106)上,与非故意掺杂AlzGa1-zN层(106)形成欧姆或低势垒肖特基接触,肖特基势垒高度≤0.7eV,两叉指电极之间为非故意掺杂AlyGa1-yN层(107)与受主掺杂AlmGa1-mN层(108)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山大学,未经中山大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010405250.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的