[发明专利]一种增益型异质结紫外光电探测器有效

专利信息
申请号: 202010405250.9 申请日: 2020-05-14
公开(公告)号: CN111739960B 公开(公告)日: 2022-07-26
发明(设计)人: 江灏;宋志远;邱新嘉 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: H01L31/0304 分类号: H01L31/0304;H01L31/112
代理公司: 深圳市创富知识产权代理有限公司 44367 代理人: 吴族平
地址: 510275 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 增益 型异质结 紫外 光电 探测器
【权利要求书】:

1.一种增益型异质结紫外光电探测器,其特征在于:包括衬底(101)及生长于所述衬底(101)之上的成核层(102)、非故意掺杂AlkGa1-kN缓冲层(103)、AlxGa1-xN组分过渡层(104)、非故意掺杂AlyGa1-yN层(105)、非故意掺杂AlzGa1-zN层(106)、非故意掺杂AlyGa1-yN层(107)、受主掺杂AlmGa1-mN层(108)以及分布于非故意掺杂AlzGa1-zN层(106)上的叉指型接触电极(109),其中Al组分x的起始值≤k,终止值为y,yz;所述非故意掺杂AlyGa1-yN层(105)为二维电子气的沟道层、次级光吸收层,其Al组分y≤k,厚度为0.2-3μm;所述非故意掺杂AlzGa1-zN层(106)为二维电子气的势垒层以及叉指型接触电极的引出层,其Al组分zy,厚度为5-35nm;所述非故意掺杂AlyGa1-yN层(107)为初级光吸收层,厚度为10-100nm;所述受主掺杂AlmGa1-mN层(108),其Al组分m≥y,厚度为20-300nm,层中空穴浓度为1×1017-5×1018cm-3

所述衬底(101)为蓝宝石、碳化硅、氮化铝、氮化镓或硅衬底;

所述成核层(102)为低温或者高温生长的AljGa1-jN,其中,Al组分j的取值范围为0-1,成核层(102)的厚度为10-100nm;

所述非故意掺杂AlkGa1-kN缓冲层(103),Al组分k的取值范围为0-1,厚度为0.1-2.0μm。

2.如权利要求1所述的一种增益型异质结紫外光电探测器,其特征在于:所述AlxGa1-xN组分过渡层(104)的Al组分为线性变化或分n段台阶变化,其中,n值≤3,Al组分x的起始值≤k,终止值为y,厚度为0-300nm。

3.如权利要求1所述的一种增益型异质结紫外光电探测器,其特征在于:所述叉指型接触电极(109)为欧姆接触电极或低势垒肖特基接触电极;叉指型接触电极中,一边叉指电极为正电极,另一边为负电极,位于非故意掺杂AlzGa1-zN层(106)上,与非故意掺杂AlzGa1-zN层(106)形成欧姆或低势垒肖特基接触,肖特基势垒高度≤0.7eV,两叉指电极之间为非故意掺杂AlyGa1-yN层(107)与受主掺杂AlmGa1-mN层(108)。

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