[发明专利]一种光学系统杂光抑制角室内测试系统

权利要求书

1.一种光学系统杂光抑制角室内测试系统，其特征在于，

由杂光室、杂光模拟器、杂光窗口、光学暗室、工况模拟器、环境杂光抑制器和多维调整机构组成；其中，所述杂光模拟器置于所述杂光室，所述工况模拟器、所述环境杂光抑制器和所述多维调整机构置于所述光学暗室，且所述杂光室与所述光学暗室之间由所述杂光窗口连接；

所述杂光窗口的左边是所述杂光室，所述杂光窗口的右边是所述光学暗室；置于所述杂光室的所述杂光模拟器光轴与所述杂光窗口垂直；置于所述光学暗室的所述被测光学系统光轴与所述杂光模拟器光轴成α角；置于所述光学暗室的所述工况模拟器在所述被测光学系统的左下方，且所述工况模拟器的所述光轴与所述被测光学系统的所述光轴重合；置于所述光学暗室的所述环境杂光抑制器在所述被测光学系统后方，且将所述被测光学系统环绕；置于所述光学暗室的所述多维调整机构在所述工况模拟器、所述被测光学系统和所述环境杂光抑制器的后方。

2.根据权利要求1所述的一种光学系统杂光抑制角室内测试系统，其特征在于，

所述杂光室用于放置所述杂光模拟器，与所述光学暗室隔离，可防止所述杂光模拟器发出的杂光经一次反射进入所述被测光学系统；

所述杂光模拟器用于产生所述太阳辐射，所模拟的所述太阳辐射的辐照度为0.5~1S₀，太阳准直角为1°，太阳光谱匹配度为A级，太阳辐射不均匀度为2%~4%，太阳辐照面覆盖被测光学系统口径；

所述光学暗室用于放置所述工况模拟器、所述环境杂光抑制器和所述多维调整机构，为所述被测光学系统提供10^-9lx以下的黑暗环境；

所述工况模拟器用于模拟所述被测光学系统的实际工作场景，如恒星星图，且星图模拟精度优于10″；

所述环境杂光抑制器用于抑制所述杂光模拟器发出的未进入所述被测光学系统的杂光辐射，防止该部分所述杂光辐射通过一次反射、二次反射等进入所述被测光学系统，影响所述杂光抑制角测量；

所述多维调整机构用于放置所述工况模拟器、所述被测光学系统和所述环境杂光抑制器，且保证所述工况模拟器、所述被测光学系统和所述环境杂光抑制器的相对位置不变的前提下，实现所述工况模拟器、所述被测光学系统和所述环境杂光抑制器的水平方向旋转，与所述杂光模拟器形成夹角变化。

3.根据权利要求1所述的一种光学系统杂光抑制角室内测试系统，其特征在于，

所述杂光模拟器在所述杂光室发出准直的、均匀的所述太阳辐射，经过所述杂光窗口后进入所述光学暗室，并覆盖所述被测光学系统口径，供所述被测光学系统接收，且所述杂光模拟器光轴与所述被测光学系统的所述光轴成α角；所述工况模拟器发出准直的、模拟所述被测光学系统实际工作场景的图像，供所述被测光学系统接收，且所述工况模拟器所述光轴与所述被测光学系统的所述光轴重合；所述环境杂光抑制器吸收所述杂光模拟器发出的、未进入所述被测光学系统的所述杂光辐射，确保该部分所述杂光辐射不会通过一次反射、二次反射等进入所述被测光学系统；所述多维调整机构承载所述工况模拟器、所述被测光学系统和所述环境杂光抑制器，通过旋转水平角度，改变所述被测光学系统所述光轴和所述杂光模拟器所述光轴之间的夹角α，将所述α角从90°开始逐渐减小，直到所述杂光模拟器发出的所述杂光辐射干扰所述被测光学系统工作，则记录此时的所述夹角α，该角度即为所述被测光学系统的所述杂光抑制角。