[发明专利]一种二硫化钼纳米带及其制备方法、场效应晶体管的电极材料在审
申请号: | 202010406348.6 | 申请日: | 2020-05-14 |
公开(公告)号: | CN111540786A | 公开(公告)日: | 2020-08-14 |
发明(设计)人: | 杨雷;袁雪芹;张甲甲;刘孝武;刘仁勇;刘坤 | 申请(专利权)人: | 皖西学院 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/40;H01L29/43;B82Y30/00 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 刘兵 |
地址: | 237012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 二硫化钼 纳米 及其 制备 方法 场效应 晶体管 电极 材料 | ||
1.一种二硫化钼纳米带的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
在还原氛围的气流中,将硫氰酸盐置于所述气流的上游端,将钼酸盐置于所述气流的下游端,并在所述钼酸盐的上方悬空设置一衬底,接着在150~600℃下煅烧45-90min。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其中,所述煅烧包括第一阶段和第二阶段:
所述第一阶段的煅烧温度为150-250℃,煅烧时间为30-60min;
优选的,所述第一阶段的煅烧温度为180-220℃,煅烧时间为40-50min;
优选的,所述第二阶段的煅烧温度为450-600℃,煅烧时间为15-30min;
优选的,所述第二阶段的煅烧温度为480-550℃,煅烧时间为20-25min。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其中,所述煅烧的过程中,升温速率为5-30℃/min;
优选的,所述升温速率为8-25℃/min;
更优选的,所述升温速率为10-20℃/min。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其中,所述硫氰酸盐与所述钼酸盐的质量比为1:(0.5-10);
优选的,所述硫氰酸盐与所述钼酸盐的质量比为1:(0.66-7);
优选的,所述硫氰酸盐与所述钼酸盐的质量比为1:(1-3)。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其中,所述衬底为SiO2衬底和/或Si衬底;
优选的,所述衬底包括Si层和SiO2层;
更优选的,所述SiO2层的厚度为100-300nm。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其中,所述硫氰酸盐选自硫氰酸钾和/或硫氰酸钠;
优选的,所述钼酸盐为钼酸铵。
7.根据权利要求1所述的制备方法,所述还原气体的流速为5-100sccm,优选为10-80sccm。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其中,所述制备方法包括以下步骤:
(1)将硫氰酸盐放在第一陶瓷舟中,使硫氰酸盐集中在第一陶瓷舟沿气流方向的上游端;
将钼酸盐在第二陶瓷舟中铺开,并在第二陶瓷舟上部放置SiO2/Si衬底,且SiO2面朝下;
(2)将第一陶瓷舟放置在管式炉的一端,将第二陶瓷舟放置在管式炉的中央,并向管式炉中通入还原气体,其中进气口设置在临近所述第一陶瓷舟的一端,出气口设置在远离所述第一陶瓷舟的一端;
(4)将管式炉以5-30℃/min的升温速率升温至150-250℃,并在150-250℃下煅烧30-60min,接着以5-30℃/min的升温速率升温至450-600℃,并在450-600℃下煅烧15-30min。
9.一种根据权利要求1-8中任意一项所述的制备方法制备得到的二硫化钼纳米带;
优选的,所述二硫化钼纳米带直接负载在SiO2衬底上。
10.一种场效应晶体管的电极材料,其特征在于,包括权利要求9所述的二硫化钼纳米带;
所述电极材料的开电流能≥90μA/μm;跨导≥4μS/μm,载流子迁移率≥100cm2/(V·s),开关比≥108。
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