[发明专利]一种基于光场相机的透明或半透明介质缺陷检测系统及方法在审

专利信息
申请号: 202010412397.0 申请日: 2020-05-15
公开(公告)号: CN112824881A 公开(公告)日: 2021-05-21
发明(设计)人: 李浩天 申请(专利权)人: 奕目(上海)科技有限公司
主分类号: G01N21/958 分类号: G01N21/958;G01N21/95;G01N21/88;G01B11/24;G06T7/00
代理公司: 上海段和段律师事务所 31334 代理人: 李佳俊
地址: 201109 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 相机 透明 半透明 介质 缺陷 检测 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种透明或半透明介质缺陷检测系统,其特征在于,该系统包括,

待检测的透明或半透明介质,

至少一个光源,用于将光线照射至所述的透明或半透明介质,

光场相机,拍摄获取所述透明或半透明介质的图像,用以检测出所述的透明或半透明介质存在的三维缺陷,该检测的步骤包括:

用光圈匹配后的光场相机拍摄多张散焦柔光板,进行光场白图像校准,并且完成微透镜中心校准;进行光场相机尺度校准,搭设适合角度的光源;用光场相机拍摄被测介质缺陷区域并处理得到多视角及深度图像,基于多视角图像中缺陷的形状及颜色,剔除深度图中非缺陷点,最终获得所述的透明或半透明介质缺陷的三维信息。

2.根据权利要求1所述的透明或半透明介质缺陷检测系统,其特征在于,所述的透明或半透明介质存在的三维缺陷方法具体包括以下步骤:

A1,调节所述光场相机的焦距和光圈,拍摄多张散焦柔光纯色校准板,获取光场相机白图像,

根据光场相机白图像计算得到去渐晕矩阵和光场相机微透镜亚像素级中心坐标矩阵;

A2,使用所述光场相机拍摄多张已知空间三维位置的圆点校准板,并建立从三维坐标到视差之间的光场数学模型,完成光场相机的尺度校准;

A3,将所述光源照射被测的所述透明或半透明介质,使得所述透明或半透明介质的可能的缺陷能够被所述光场相机拍摄成像;

A4,使用所述光场相机拍摄所述透明或半透明介质缺陷所处区域并进行光场多视角渲染及深度计算,获得光场多视角图像和光场深度图像;

A5,根据光场多视角图像中缺陷的形状和颜色信息剔除光场深度图像中的非缺陷点;

A6,计算得到所述透明或半透明介质内部及表面缺陷的三维位置和形状信息。

3.根据权利要求2所述的透明或半透明介质缺陷检测系统,其特征在于,步骤A1还包括,

调节光场相机主镜头和光圈,使光场相机的原始光场白图像的微透镜阵列恰好或近似于相切;

令光场相机拍摄多张散焦柔光纯色校准板图像,该校准板位于光场相机散焦处的光强均匀的纯色背景板,其中,

去渐晕矩阵为多张原始光场白图像W(u,v)进行平均化及归一化处理后的矩阵

光场相机微透镜亚像素级中心坐标矩阵是对光场白图像进行每个微透镜局部最大值处理后,迭代优化处理得到亚像素级微透镜中心坐标。

4.根据权利要求3所述的透明或半透明介质缺陷检测系统,其特征在于,步骤A2中所述的圆点校准板上各个圆点的三维坐标为已知,用光场相机拍摄该校准板后获得该校准板圆点的弥散程度及对应的视差值,进而拟合校准得到视差值和三维坐标的关系。

5.根据权利要求4所述的透明或半透明介质缺陷检测系统,其特征在于,步骤A3中光源的角度设置,使得光源光线能够将透明或半透明介质表面及内部缺陷照射清楚,保证光场相机对所述的透明或半透明介质缺陷进行成像。

6.根据权利要求5所述的透明或半透明介质缺陷检测系统,其特征在于,步骤A4中光场相机拍摄到缺陷图像后进行光场多视角渲染得到光场多视角图像和光场视差图像,通过步骤A2中校准得到的视差及三维坐标的转化关系,将视差图像转化为深度图像。

7.根据权利要求6所述的透明或半透明介质缺陷检测系统,其特征在于,对于步骤A5中的光场多视角图像中存在缺陷的形状及颜色信息,根据缺陷常见的形状和该光照下的颜色信息进行分类识别,进一步定位该缺陷在光场多视角图像中的位置,将非缺陷区域在深度图像中剔除。

8.根据权利要求7所述的透明或半透明介质缺陷检测系统,其特征在于,步骤A6基于尺度校准结果将深度图像进行三维映射获取缺陷的三维点云信息。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奕目(上海)科技有限公司,未经奕目(上海)科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010412397.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top