[发明专利]一种大尺寸超硬衬底片快速抛光方法

权利要求书

1.一种大尺寸超硬衬底片快速抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：

步骤(1)、超硬衬底体材料经过切割、机械研磨、机械抛光后得到的衬底片或者回收的超硬衬底片，清洗干净后粘贴于研磨盘上，采用第一步化学机械抛光，选择金刚石抛光液，与去离子水混合，调节其浓度20％-30％，加入强碱调节其pH值大于13，加入氧化剂与分散剂，采用白垫作为抛光垫，抛光时间30min-50min；

步骤(2)、对步骤(1)加工完成的衬底片，卸盘后清洗干净，重新粘贴于研磨盘上，采用第二步化学机械抛光，选用金刚石抛光液，与去离子水混合，调节其浓度15％-20％，加入强碱调节其pH值11至13之间，加入氧化剂与分散剂，采用白垫作为抛光垫，抛光时间30min-50min；

步骤(3)、对步骤(2)加工完成的衬底片，卸盘后清洗干净，重新粘贴于研磨盘上，采用第三步化学机械抛光，选用二氧化硅胶体抛光液，与去离子水混合，调节其浓度10％-15％，加入强碱调节其pH值10至11之间，加入氧化剂与分散剂，采用阻尼布作为抛光垫，抛光时间50min-100min。

2.如权利要求1所述的一种大尺寸超硬衬底片快速抛光方法，其特征在于，所述步骤(1)中，所述的超硬衬底包括碳化硅、氮化镓、蓝宝石、硅材料。

3.如权利要求1所述的一种大尺寸超硬衬底片快速抛光方法，其特征在于，所述步骤(1)中，所述的金刚石抛光液粒径为100-500nm。

4.如权利要求1所述的一种大尺寸超硬衬底片快速抛光方法，其特征在于，所述步骤(1)中，所述强碱包括氢氧化钠、氢氧化钾。

5.如权利要求1所述的一种大尺寸超硬衬底片快速抛光方法，其特征在于，所述步骤(1)中，所述的氧化剂包括双氧水、高锰酸钾。

6.如权利要求1所述的一种大尺寸超硬衬底片快速抛光方法，其特征在于，所述步骤(1)中，所述的白垫硬度为80±5。

7.如权利要求1所述的一种大尺寸超硬衬底片快速抛光方法，其特征在于，所述步骤(2)中，所述的金刚石抛光液粒径为50-100nm。

8.如权利要求1所述的一种大尺寸超硬衬底片快速抛光方法，其特征在于，所述步骤(2)中，所述的白垫硬度为65±5。

9.如权利要求1所述的一种大尺寸超硬衬底片快速抛光方法，其特征在于，所述步骤(3)中，所述的二氧化硅胶体粒径为20-30nm。

10.如权利要求1所述的一种大尺寸超硬衬底片快速抛光方法，其特征在于，所述步骤(3)中，所述的阻尼布硬度为70±5。