[发明专利]用于生成图像的方法、装置、设备以及存储介质有效

专利信息
申请号: 202010413776.1 申请日: 2020-05-15
公开(公告)号: CN111539905B 公开(公告)日: 2023-08-25
发明(设计)人: 杨少雄;赵晨 申请(专利权)人: 北京百度网讯科技有限公司
主分类号: G06T5/50 分类号: G06T5/50
代理公司: 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 代理人: 王达佐;马晓亚
地址: 100085 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 用于 生成 图像 方法 装置 设备 以及 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种用于生成图像的方法,包括:

获取待处理图像,生成所述待处理图像的高亮图和掩膜,其中,所述高亮图对应的各像素值相同,所述掩膜对应的各像素值相同,所述高亮图对应的像素值高于所述掩膜对应的像素值;

在所述掩膜上绘制光斑;

基于所绘制的光斑,生成归一化的掩膜;

按照所述归一化的掩膜,将所述待处理图像和所述高亮图进行alpha融合,生成亮度增强后的图像。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述基于所绘制的光斑,生成归一化的掩膜,包括:

对所绘制的光斑进行边缘羽化处理;

对羽化处理后的掩膜进行归一化处理,得到归一化的掩膜。

3.根据权利要求1所述的方法,其中,所述按照所述归一化的掩膜,将所述待处理图像和所述高亮图进行融合,生成亮度增强后的图像,包括:

按照所述归一化的掩膜,将所述待处理图像和所述高亮图进行融合,确定融合得到的各个像素值中是否存在大于目标数值的像素值;

若是,则将目标像素点的像素值替换为所述目标数值,生成亮度增强后的图像,其中,所述目标像素点为大于所述目标数值的像素值所指示的像素点。

4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述在所述掩膜上绘制光斑,包括:

在所述掩膜的目标区域中绘制光斑,其中,所述目标区域为以所述掩膜的顶点为顶点、以所述掩膜的相邻两条边为相邻边的矩形区域,所述矩形区域的边长为所述掩膜的边长与预设数值的乘积。

5.根据权利要求1所述的方法,其中,所述光斑的形状包括以下至少一项:圆形、椭圆形、多边形和不规则图形。

6.根据权利要求1-5之一所述的方法,其中,在所述生成亮度增强后的图像之后,所述方法还包括:

将所述亮度增强后的图像添加到目标模型对应的训练图像集合中。

7.一种用于生成图像的装置,包括:

获取单元,被配置成获取待处理图像,生成所述待处理图像的高亮图和掩膜,其中,所述高亮图对应的各像素值相同,所述掩膜对应的各像素值相同,所述高亮图对应的像素值高于所述掩膜对应的像素值;

绘制单元,被配置成在所述掩膜上绘制光斑;

生成单元,被配置成基于所绘制的光斑,生成归一化的掩膜;

融合单元,被配置成按照所述归一化的掩膜,将所述待处理图像和所述高亮图进行alpha融合,生成亮度增强后的图像。

8.根据权利要求7所述的装置,其中,所述生成单元进一步被配置成按照如下方式基于所绘制的光斑,生成归一化的掩膜:

对所绘制的光斑进行边缘羽化处理;

对羽化处理后的掩膜进行归一化处理,得到归一化的掩膜。

9.根据权利要求7所述的装置,其中,所述融合单元进一步被配置成按照如下方式按照所述归一化的掩膜,将所述待处理图像和所述高亮图进行融合,生成亮度增强后的图像:

按照所述归一化的掩膜,将所述待处理图像和所述高亮图进行融合,确定融合得到的各个像素值中是否存在大于目标数值的像素值;

若是,则将目标像素点的像素值替换为所述目标数值,生成亮度增强后的图像,其中,所述目标像素点为大于所述目标数值的像素值所指示的像素点。

10.根据权利要求7所述的装置,其中,所述绘制单元进一步被配置成按照如下方式在所述掩膜上绘制光斑:

在所述掩膜的目标区域中绘制光斑,其中,所述目标区域为以所述掩膜的顶点为顶点、以所述掩膜的相邻两条边为相邻边的矩形区域,所述矩形区域的边长为所述掩膜的边长与预设数值的乘积。

11.根据权利要求7所述的装置,其中,所述光斑的形状包括以下至少一项:圆形、椭圆形、多边形和不规则图形。

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