[发明专利]一种调光层、一种匀光部件及一种抗吸附调光层

权利要求书

1.一种调光层，其特征在于，所述调光层具有入光面和出光面；所述调光层内包含有光散射剂，所述光散射剂置于调光层的入光面和出光面之间；所述入光面为光滑平面，所述出光面为光滑平面；所述入光面的表面粗糙度Ra≤250nm，所述出光面的表面粗糙度Ra≤250nm；所述光散射剂在调光层中的填充率D’为0.0001～0.95。

2.根据权利要求1所述的调光层，其特征在于，所述调光层内包括传播介质和光散射剂，所述光散射剂分散在传播介质中；所述入光面的表面粗糙度Ra250nm，所述出光面的表面粗糙度Ra250nm。

3.根据权利要求2所述的调光层，其特征在于，所述调光层的厚度T为0.5～5000μm；所述入光面的表面粗糙度Ra100nm，所述出光面的表面粗糙度Ra100nm。

4.根据权利要求2所述的调光层，其特征在于，所述传播介质选自聚合物树脂。

5.根据权利要求2所述的调光层，其特征在于，所述入光面的表面粗糙度Ra50nm，所述出光面的表面粗糙度Ra50nm。

6.根据权利要求1所述的调光层，其特征在于，所述光散射剂选自聚合物粒子或无机粒子中的一种或至少两种的组合。

7.根据权利要求1所述的调光层，其特征在于，所述光散射剂在调光层中的填充率D’为0.35～0.95。

8.根据权利要求7所述的调光层，其特征在于，所述光散射剂的粒径为50-250nm。

9.一种匀光部件，其特征在于，所述匀光部件为权利要求1-8中任一项所述的调光层。

10.一种匀光部件，其特征在于，所述匀光部件包括权利要求1-8中任一项所述的调光层和基材，所述调光层的上表面和下表面中至少有一面与所述基材相接。

11.一种抗吸附调光层，其特征在于，所述抗吸附调光层包含薄板结构层和权利要求1-8中任一项所述的调光层。

12.根据权利要求11所述的抗吸附调光层，其特征在于，所述薄板结构层附着在所述的调光层的上表面和/或下表面。

13.根据权利要求11所述的抗吸附调光层，其特征在于，所述薄板结构层包括若干薄板结构。

14.根据权利要求11所述的抗吸附调光层，其特征在于，所述薄板结构层由扁平状的薄板结构平铺而成。

15.根据权利要求11所述的抗吸附调光层，其特征在于，所述薄板结构的外表面与调光层的外表面平行，所述薄板结构的侧面垂直于调光层的外表面。

16.根据权利要求11所述的抗吸附调光层，其特征在于，所述薄板结构呈扁平状，高H为0.5～5μm，高宽比r为0.05～0.2。

17.根据权利要求11所述的抗吸附调光层，其特征在于，所述薄板结构在调光层外表面的面积覆盖率k为5％～50％。