[发明专利]具有无铅双熔块边缘密封的真空绝缘玻璃(VIG)单元和/或制备其的方法在审
申请号: | 202010416878.9 | 申请日: | 2015-02-03 |
公开(公告)号: | CN111517638A | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 约翰·P·霍根;蒂莫西·A·丹尼斯;鲁道夫·H·彼得米赫尔;格雷格·凯梅纳赫 | 申请(专利权)人: | 佳殿玻璃有限公司 |
主分类号: | C03C3/062 | 分类号: | C03C3/062;C03C3/066;C03C3/12;C03C3/14;C03C3/145;C03C8/02;C03C8/04;C03C8/14;C03C8/22;C03C8/24;C03C27/06;C03B27/04;E06B3/66;E06B3/677 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 吴胜周 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有无 铅双熔块 边缘 密封 真空 绝缘 玻璃 vig 单元 制备 方法 | ||
本发明的示例性实施例涉及一种真空绝缘玻璃(VIG)单元,具有使用两个不同的基于熔块的边缘密封材料制成的高效密封,和/或其制备方法。在示例性实施例中,第一熔块材料被施加在第一和第二玻璃基片的外围边缘。在示例性实施例中第一熔块材料可基于铋,经热处理(例如热回火)过程被燃烧。在示例性实施例中第二熔块材料可基于VBZ,被施加并与燃烧的第一熔块材料至少部分地重叠。第一熔块材料作为底料,且第二熔块材料用来密封VIG单元。第二熔块材料在较低的温度下被燃烧,使玻璃保持回火或热处理所赋予的其他强度。
本申请是国际申请日为2015年2月3日、国际申请号为PCT/US2015/014187、进入中国国家阶段的申请号为201580018001.1且发明名称为“具无铅双熔块边缘密封的真空绝缘玻璃(VIG)单元和/或制备其的方法”的中国发明申请的分案申请。
相关申请的引证
本申请将2012年5月25日提交的美国申请No.13/480,987的全部内容纳入此处作为参照。
技术领域
本发明的示例性实施例涉及一种真空绝缘玻璃(VIG或真空IG)单元,和/或制备其的方法。特别是,本发明的示例性实施例涉及一种VIG单元,具有改进的密封,使用两种不同的基于熔块的边缘密封材料,和/或制备其的方法。
背景技术
真空绝缘玻璃(VIG或真空IG)单元在本领域中为已知技术。例如,一些示例性的VIG配置在美国专利Nos.5,657,607,5,664,395,5,657,607,5,902,652,6,506,472和6,383,580中被说明,其公开的全部内容被纳入此处作为参考。
图1-2示出了常规的VIG窗单元1和形成VIG窗单元1的元件。VIG单元1可包括两个被隔开的基本平行的玻璃基片2和3,其之间具有被排空的低压空间/腔6。玻璃片或基片2、3通过由熔融的焊料玻璃等制成的外围边缘密封4被互连。鉴于基片2、3之间存在低压空间/腔6,玻璃基片2、3之间可包括一排支撑柱或隔离片5,来维持VIG单元1的基片2、3的间距。
泵出管8可通过焊料玻璃9或类似等被气密密封至孔隙/孔洞10,其从玻璃基片2的内表面通向至玻璃基片2外表面的选择性凹槽11底部或选择性地至玻璃基片2的外表面。真空被连接至泵出管8使内腔6被排空至低于大气压的低压,例如,使用连续泵下操作。腔6被排空后,管8的部分(顶端)被熔化,在低压腔/空间6中来密封真空。选择性凹槽11则用来保持密封的泵出管8。可选择地,凹槽13内可包含化学吸气剂12,配置在玻璃基片中的一个的内表面,例如玻璃基片2。化学吸气剂12可被用来吸收或结住腔6被排空和密封后可能遗留的残余杂质。
带有外围气密边缘的密封4(焊料玻璃)的VIG单元一般是通过在基片2的外围(或在基片3上)沉积溶液状(例如熔块浆)的玻璃熔块或其他合适的材料被制成。该玻璃熔块最终形成边缘密封4。将另一个基片(例如基片3)置于基片2上,从而将隔离片/支柱5和玻璃熔块夹在该基片2、3之间。包含玻璃基片2、3,隔离片/支柱5和密封材料(例如溶液状或浆状的玻璃熔块)的整个组件被加热到至少约440℃的温度,此时,玻璃熔块熔化,润湿玻璃基片2、3的表面,并最终形成气密的外围/边缘密封4。
常规边缘密封的组成为本领域中的已知技术。例如参照美国专利Nos.3,837,866;4,256,495;4,743,302;5,051,381;5,188,990;5,336,644;5,534,469;7,425,518和美国公开2005/0233885,其公开的内容全部被纳入此处作为参考。
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