[发明专利]曝光装置及物品的制造方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其进行曝光处理以将掩模的图案转印至基板，所述曝光装置包括：

投影光学系统，其被构造为将所述掩模的图案投影到所述基板上；

测量图案，其布置在所述投影光学系统的物体平面上并且包括多个图案元素，所述多个图案元素在所述投影光学系统的光轴方向上具有不同的位置；

第一检测单元，其被构造为经由所述投影光学系统检测来自所述测量图案的光；以及

控制单元，其被构造为当进行所述曝光处理时，控制所述掩模与所述基板之间在所述光轴方向上的相对位置，

其中，控制单元基于第一光量分布和第二光量分布来控制所述相对位置，所述第一光量分布表示从所述第一检测单元的在第一定时的检测结果中获得的、通过所述多个图案元素中的各个的光的光量，所述第二光量分布表示从所述第一检测单元在所述第一定时之后的第二定时的检测结果中获得的、通过所述多个图案元素中的各个的光的光量。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

从在所述第一定时布置在所述投影光学系统的基准焦点位置处的所述第一检测单元的检测结果中获得所述第一光量分布，并且

从在所述第二定时布置在所述基准焦点位置处的所述第一检测单元的检测结果中获得所述第二光量分布。

3.根据权利要求2所述的曝光装置，其中，所述基准焦点位置包括所述投影光学系统在所述第一定时的最佳焦点位置。

4.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述控制单元通过从所述第一光量分布与所述第二光量分布之间的差获得载台在所述光轴方向上的移动量、并且将所述载台移动所述移动量，来控制所述相对位置，所述载台保持所述基板，并且所述移动量是在所述第二定时将所述基板定位在所述投影光学系统的最佳焦点位置所需的。

5.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，所述测量图案由形成有所述多个图案元素的平板形成，并且以所述平板的法线相对于所述投影光学系统的光轴倾斜的方式布置所述测量图案，使得所述多个图案元素在所述光轴方向上具有不同的位置。

6.根据权利要求2所述的曝光装置，所述曝光装置还包括：

物体平面侧图案，其布置在所述投影光学系统的所述物体平面上；

像平面侧图案，其布置在所述投影光学系统的像平面上；以及

第二检测单元，其被构造为经由所述投影光学系统和所述像平面侧图案检测来自所述物体平面侧图案的光，

其中，所述控制单元在所述光轴方向上移动所述像平面侧图案的同时，基于由所述第二检测单元检测到的光的光量分布，来确定所述基准焦点位置。

7.根据权利要求2所述的曝光装置，所述曝光装置还包括：

物体平面侧图案，其布置在所述投影光学系统的所述物体平面上，

其中，所述第一检测单元经由所述投影光学系统检测来自所述物体平面侧图案的光，并且

所述控制单元在所述光轴方向上移动所述第一检测单元的同时，基于由所述第一检测单元检测到的光的光量变化，来确定所述基准焦点位置。

8.根据权利要求2所述的曝光装置，所述曝光装置还包括：

旋转单元，其被构造为使所述测量图案绕垂直于所述投影光学系统的光轴的轴旋转，

其中，所述测量图案由形成有所述多个图案元素的平板形成，并且

所述旋转单元使所述测量图案旋转，使得在所述第二定时所述多个图案元素在所述光轴方向上具有不同的位置。

9.根据权利要求8所述的曝光装置，所述曝光装置还包括：

像平面侧图案，其布置在所述投影光学系统的像平面上；以及

第二检测单元，其被构造为经由所述投影光学系统和所述像平面侧图案检测来自所述测量图案的光，

其中，在所述旋转单元使所述测量图案旋转使得所述平板的法线平行于所述投影光学系统的光轴的状态下，所述控制单元在所述光轴方向上移动所述像平面侧图案的同时，基于由所述第二检测单元检测到的光的光量变化，来确定所述基准焦点位置。