[发明专利]一种基于场效应管的二硫化钼拉力探测器在审
申请号: | 202010419270.1 | 申请日: | 2020-05-18 |
公开(公告)号: | CN111551292A | 公开(公告)日: | 2020-08-18 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 西安柯莱特信息科技有限公司 |
主分类号: | G01L1/16 | 分类号: | G01L1/16;H01L29/423;H01L29/78 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 710000 陕西省西安市高新区高*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 场效应 二硫化钼 拉力 探测器 | ||
1.一种基于场效应管的二硫化钼拉力探测器,其特征在于,包括:衬底、金属层、绝缘层、半导体层、弹性层、二硫化钼层、固定块、移动块、源极、漏极,所述金属层置于所述衬底的上表面的中部,所述绝缘层置于所述衬底的上表面及所述金属层的外侧,所述金属层和所述绝缘层具有相同的厚度,所述半导体层置于所述金属层和所述绝缘层上,所述弹性层置于所述半导体层上,所述二硫化钼层置于所述弹性层上,所述弹性层为绝缘材料,所述固定块固定在所述半导体层上,所述弹性层的一端固定在所述的固定块上,所述弹性层的另一端固定在所述移动块上,使用时,通过所述移动块施加拉力,在自然状态和拉伸状态下,所述二硫化钼层均不超出所述金属层的范围,所述源极和所述漏极设置在所述半导体层上,并且置于所述金属层两侧的所述绝缘层的上部。
2.如权利要求1所述的基于场效应管的二硫化钼拉力探测器,其特征在于:所述半导体层为硅半导体,所述硅半导体的厚度小于2微米。
3.如权利要求2所述的基于场效应管的二硫化钼拉力探测器,其特征在于:所述弹性层的厚度从所述固定块向所述移动块逐渐减小。
4.如权利要求3所述的基于场效应管的二硫化钼拉力探测器,其特征在于:所述半导体层的厚度从所述固定块向所述移动块逐渐减小。
5.如权利要求1-4任一项所述的基于场效应管的二硫化钼拉力探测器,其特征在于:所述源极为金、铝、钛材料。
6.如权利要求5所述的基于场效应管的二硫化钼拉力探测器,其特征在于:所述漏极为金、铝、钛材料。
7.如权利要求6所述的基于场效应管的二硫化钼拉力探测器,其特征在于:所述固定块、所述移动块与所述源极、所述漏极均不接触。
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