[发明专利]一种基于场效应管的二硫化钼拉力探测器在审

专利信息
申请号: 202010419270.1 申请日: 2020-05-18
公开(公告)号: CN111551292A 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 西安柯莱特信息科技有限公司
主分类号: G01L1/16 分类号: G01L1/16;H01L29/423;H01L29/78
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 710000 陕西省西安市高新区高*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 场效应 二硫化钼 拉力 探测器
【权利要求书】:

1.一种基于场效应管的二硫化钼拉力探测器,其特征在于,包括:衬底、金属层、绝缘层、半导体层、弹性层、二硫化钼层、固定块、移动块、源极、漏极,所述金属层置于所述衬底的上表面的中部,所述绝缘层置于所述衬底的上表面及所述金属层的外侧,所述金属层和所述绝缘层具有相同的厚度,所述半导体层置于所述金属层和所述绝缘层上,所述弹性层置于所述半导体层上,所述二硫化钼层置于所述弹性层上,所述弹性层为绝缘材料,所述固定块固定在所述半导体层上,所述弹性层的一端固定在所述的固定块上,所述弹性层的另一端固定在所述移动块上,使用时,通过所述移动块施加拉力,在自然状态和拉伸状态下,所述二硫化钼层均不超出所述金属层的范围,所述源极和所述漏极设置在所述半导体层上,并且置于所述金属层两侧的所述绝缘层的上部。

2.如权利要求1所述的基于场效应管的二硫化钼拉力探测器,其特征在于:所述半导体层为硅半导体,所述硅半导体的厚度小于2微米。

3.如权利要求2所述的基于场效应管的二硫化钼拉力探测器,其特征在于:所述弹性层的厚度从所述固定块向所述移动块逐渐减小。

4.如权利要求3所述的基于场效应管的二硫化钼拉力探测器,其特征在于:所述半导体层的厚度从所述固定块向所述移动块逐渐减小。

5.如权利要求1-4任一项所述的基于场效应管的二硫化钼拉力探测器,其特征在于:所述源极为金、铝、钛材料。

6.如权利要求5所述的基于场效应管的二硫化钼拉力探测器,其特征在于:所述漏极为金、铝、钛材料。

7.如权利要求6所述的基于场效应管的二硫化钼拉力探测器,其特征在于:所述固定块、所述移动块与所述源极、所述漏极均不接触。

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