[发明专利]光刻设备及其光源位置监控方法在审
申请号: | 202010420407.5 | 申请日: | 2020-05-18 |
公开(公告)号: | CN113687574A | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 梁学玉 | 申请(专利权)人: | 长鑫存储技术有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 上海晨皓知识产权代理事务所(普通合伙) 31260 | 代理人: | 成丽杰 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 设备 及其 光源 位置 监控 方法 | ||
本发明实施例公开了一种光刻设备及其光源位置监控方法,该光刻设备包括:固定卡槽,用于安装固定所述光源;感应模块,用于感应所述光源与所述固定卡槽之间的距离信息;提示模块,用于根据所述距离信息,发出提示信息;判断模块,用于根据所述提示信息,判断所述光源的安装状态。本发明实施例提供的技术方案,可实时且较为准确地感知光源的状态,为光源安装、光源维护以及光源使用过程中的状态监控提供参考,从而有利于提高设备工程师的作业安全性和安装便捷性。
技术领域
本发明实施例涉及光刻装置技术领域,尤其涉及一种光刻设备及其光源位置监控方法。
背景技术
光刻是集成电路生产中的一个主要工艺,是将光罩上的图形转移到涂有光刻胶的基片上,通过一系列工序,将基片表面的薄膜的特定部分除去的一种图形转移技术。光刻通常可包括对半导体晶片(也可称为“基片”)表面的掩蔽物(也可称为“掩膜”)进行开孔,以便进行杂质的定域扩散的加工技术。一般的光刻工艺要经历基片表面清洗、烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准、曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序;其中,曝光工序需要应用曝光机(或称为“曝光系统”)。曝光机主要包括曝光光源、照明系统以及投影物镜,其中,照明系统和投影物镜依序对曝光光源出射的光线进行调制,以均匀照明掩模以及提高成像分辨率,确保较好的曝光效果。
目前,当曝光光源为汞灯时,其安装方式主要采用手动安装方式,安装位置是否到位一般由设备工程师根据经验和手感进行判断。但是,出于安全防护考虑,设备工程师通常穿戴防护服和防护手套,由此导致设备工程师对曝光光源的位置感知较差,较难以察觉曝光光源是否安装到位。基于此,若曝光光源未安装到位的状态下,设备工程师误判其安装到位,并在把其他相关设备安装好之后,进行最终检测时才发现曝光光源未安装到位,此时,需要将相关设备和曝光光源重新拆装,导致时间的浪费;另一方面,若曝光光源已经安装到位的状态下,设备工程师误判其未安装到位,继续向曝光光源施力,由于曝光光源可能包括对人体有害的气体,此时,可能引起曝光光源炸裂,导致安全事故。
发明内容
有鉴于此,本发明实施例提供一种光刻设备及其光源位置监控方法,以实时且准确地感知光源的安装状态,提高设备工程师的作业安全性和安装便捷性。
第一方面,本发明实施例提供了一种光刻设备,包括:
固定卡槽,用于安装固定所述光源;
感应模块,用于感应所述光源与所述固定卡槽之间的距离信息;
提示模块,用于根据所述距离信息,发出提示信息;
判断模块,用于根据所述提示信息,判断所述光源的安装状态。
第二方面,本发明实施例还提供了一种光刻设备的光源监控方法,应用第一方面提供的任一种光刻设备执行,该光源位置监控方法:
感应模块感应所述光源与所述固定卡槽之间的距离信息;
提示模块根据所述距离信息,发出提示信息;
判断模块根据所述提示信息,判断所述光源的安装状态。
本发明实施例提供的光刻设备及其光源位置监控方法中,通过设置固定卡槽、感应模块、提示模块以及判断模块;其中,固定卡槽用于安装固定光源;感应模块用于感应光源与固定卡槽之间的距离信息;提示模块用于根据距离信息,发出提示信息;判断模块,用于根据提示信息,判断光源的安装状态。由此,可利用感应模块、提示模块以及判断模块协同作用,实现对光源和固定卡槽之间的距离信息的实时监控,并在此基础上实时提示并判断光源的状态,从而可辅助光源安装,实时且较为准确地监测光源的安装状态,可提高设备工程师的作业安全性,以及提高光源的安装便捷性。
附图说明
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长鑫存储技术有限公司,未经长鑫存储技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010420407.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种烫衣系统及其控制方法
- 下一篇:一种基于区块链的即时通讯方法、设备及介质