[发明专利]金属掩膜装置在审

专利信息
申请号: 202010420506.3 申请日: 2020-05-18
公开(公告)号: CN111485195A 公开(公告)日: 2020-08-04
发明(设计)人: 何仕 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/12;C23C14/24
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 刁文魁
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 金属 装置
【说明书】:

本申请实施例提供了一种金属掩膜装置,包括:掩膜板以及设置于所述掩膜板的背面上的掩膜条;所述掩膜板上开设有多个开口,所述掩膜板上与所述掩膜条连接的一面上开设有多个与所述开口连通的第一导流槽,所述掩膜条将部分第一导流槽的局部覆盖。本申请实施例提供的金属掩膜装置通过采用该多个第一导流槽将掩膜板与掩膜条的连接处的清洗残留液排出到开口中,以便于对金属掩膜装置的清洗的效果,从而避免未清洗干净的金属掩膜装置对蒸镀操作的影响,从而可以提高OLED显示面板的品质。

技术领域

本申请涉及显示技术领域,具体涉及一种金属掩膜装置。

背景技术

有机发光二极管(organic light-emitting diode,OLED)是一种由柯达公司开发并拥有专利的显示技术,这项技术使用有机聚合材料作为发光二极管中的半导体(semiconductor)材料。OLED显示技术广泛的运用于手机、数码摄像机、DVD机、个人数字助理(PDA)、笔记本电脑、汽车音响和电视。因为OLED显示器不使用背光,使得OLED显示器很薄且很轻。OLED面板的RGB像素需要使用掩膜板将有机材料蒸镀到基板上,目前的RGB像素采用的是通过焊接上掩膜条,通过掩膜板上蚀刻的开口使有机发光材料通过,然后在基板上形成发光图形。掩膜条在蒸镀完成后需要清洗蒸镀在掩膜板上面的有机材料,在掩膜板清洗装置通过药液置换,最终洗掉掩膜板表面的附着的有机材料,但是目前,掩膜条与掩膜板的搭接区易发生药液残留,导致蒸镀过程中发生混色不良。

因此,现有技术存在缺陷,急需改进。

发明内容

本申请实施例的目的在于提供一种金属掩膜装置,可以提高对金属掩膜装置的清洗的质量,可以避免出现蒸镀过程中发生混色不良。

本申请实施例提供了一种金属掩膜装置,包括:掩膜板以及设置于所述掩膜板的背面上的掩膜条;

所述掩膜板上开设有多个开口,所述掩膜板上与所述掩膜条连接的一面上开设有多个与所述开口连通的第一导流槽,所述掩膜条将部分第一导流槽的局部覆盖。

本申请实施例提供的金属掩膜装置通过采用该多个第一导流槽将掩膜板与掩膜条的连接处的清洗残留液排出到开口中,以便于对金属掩膜装置的清洗的效果,从而避免未清洗干净的金属掩膜装置对蒸镀操作的影响,从而可以提高OLED显示面板的品质。

可选地,在本申请实施例所述的金属掩膜装置中,所述掩膜板包括多条横向延伸实体以及多条纵向延伸实体,多条横向延伸实体以及多条纵向延伸实体纵横交错以界定出所述多个开口;

所述掩膜条连接在所述横向延伸实体上,所述第一导流槽设置于所述横向延伸实体上。

可选地,在本申请实施例所述的金属掩膜装置中,所述第一导流槽的开槽深度与靠近所述开口的距离反相关。

可选地,在本申请实施例所述的金属掩膜装置中,所述横向延伸实体的临近所述开口的边缘上开设有横向槽,所述横向槽的朝向所述开口的一侧与所述开口连通,所述横向槽的远离所述开口的一侧与所述第一导流槽连通。

可选地,在本申请实施例所述的金属掩膜装置中,所述第一导流槽的开槽深度与靠近所述开口的距离反相关。

可选地,在本申请实施例所述的金属掩膜装置中,每一所述第一导流槽包括相交且在相交处连通的两个倾斜槽,每一所述倾斜槽的端部均与所述横向槽连通。

可选地,在本申请实施例所述的金属掩膜装置中,所述倾斜槽的延伸方向与所述横向延伸实体的延伸方向呈预设非零夹角。

可选地,在本申请实施例所述的金属掩膜装置中,所述倾斜槽的延伸方向与所述横向延伸实体的延伸方向呈45度夹角。

可选地,在本申请实施例所述的金属掩膜装置中,所述倾斜槽的开槽深度与靠近所述开口的距离反相关。

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