[发明专利]一种除味釉料及使用其的釉面砖的制备方法

权利要求书

1.一种除味釉，其特征在于：所述除味釉由除味釉料烧制而成，且所述除味釉生成铁堇青石晶体结构；

按照质量份数，所述除味釉料的原料包括以下组分：负磁场粉3～15份、钾长石15～25份、钠长石12～18份、石灰石10～15份、氧化锌1～5份、高岭土8～12份、氧化铝8～15份、烧土5～8份、滑石10～15份和碳酸钡5～8份；

所述负磁场粉含有氧化铁和氧化镁，且按照质量百分比，所述氧化铁的含量为33～37%,所述氧化镁的含量≤0.5%；

按照质量份数，所述除味釉料的原料还包括8～15份的硅酸锆，且按照质量百分比，所述硅酸锆包括以下组分：0.2～0.3%的氧化铯、1～2%二氧化铪和0.35～0.42%氧化钇。

2.根据权利要求1所述的一种除味釉，其特征在于：所述负磁场粉的颗粒大小为1～100nm。

3.根据权利要求1所述的一种除味釉，其特征在于：所述负磁场粉的内照射剂量≤1.1，所述负磁场粉的外照射剂量≤1.3。

4.根据权利要求1所述的一种除味釉，其特征在于：按照质量份数，所述除味釉料的原料包括以下组分：负磁场粉9份、钾长石20份、钠长石15份、石灰石12份、氧化锌3份、高岭土8份、氧化铝8份、烧土6份、滑石12份、碳酸钡6份和硅酸锆10份。

5.一种具有权利要求1～4任意一项所述除味釉的釉面砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

A、将除味釉料的原料按配比加入球磨机，将羟甲基纤维素钠、三聚磷酸钠、防腐剂和水混入球磨机进行球磨，获得除味釉料；

B、将步骤A的除味釉料布施在陶瓷砖坯体上，形成除味釉层；

C、将步骤B具有除味釉层的陶瓷砖坯体进行烘干和烧制，形成釉面砖。

6.根据权利要求5所述的一种釉面砖的制备方法，其特征在于：所述除味釉层的厚度为0.05～3mm。

7.根据权利要求5所述的一种釉面砖的制备方法，其特征在于：所述除味釉料过325目筛，筛余0.8～1.2%。

8.根据权利要求5所述的一种釉面砖的制备方法，其特征在于：所述釉面砖的有害气体去除率≥75%。