[发明专利]一种太赫兹材料制作PET膜的制作方法

说明书

本发明提供一种太赫兹材料制作PET膜的制作方法，涉及PET膜技术领域。实现了提升降低反射效果、制作成本低的效果。该太赫兹材料制作PET膜的制作方法，包括以下步骤：S1、灼烧：选择30×30cm²的硅基，将选用的硅基置于燃烧炉中进行灼烧，S2、化学清洗：对灼烧后的硅基置于清洗溶液内，进行化学清洗，S3、物理清洗：将酸洗后的硅基置于平板擦洗机内进行物理清洗。该太赫兹材料制作PET膜的制作方法，在制作前对硅基进行灼烧和清洗，硅基去除了杂质，避免了杂质对后续使用的干扰，采用层叠结构的双层金‑聚酰亚胺薄膜，降低了双波段反射率，制作成本低，比以往太赫兹材料制作PET膜更具有广阔的应用前景。

技术领域

本发明涉及PET膜技术领域，具体为一种太赫兹材料制作PET膜的制作方法。

背景技术

PET膜又名耐高温聚酯薄膜。可广泛的应用于磁记录、感光材料、电子、电气绝缘、工业用膜、包装装饰、屏幕保护、光学级镜面表面保护等领域。

太赫兹波指介于0.1-10 THz频率范围的电磁波,其频谱介于无线电波和红外光之间。以近年来，随着太赫兹辐射产生和探测技术的发展，对太赫兹功能器件的需求逐步增多，深入研究太赫兹功能器件，实现对太赫兹波的有效控制，已成为当今国际太赫兹学术界公认的前沿性基础研究方向。

2009年，有学者提出可通过制作浮雕结构来降低反射，他们在硅中刻蚀不同密度的空气柱，以此来调节空气与硅的比率，达到了阻抗匹配的要求，降低了反射。2014年又有学者提出利用石墨烯来制作太赫兹增透膜,石墨烯的阻抗值会随着堆叠层数而变化，当堆叠石墨烯的阻抗值与空气和硅的阻抗值相匹配时,即可达到降低反射的效果，通过上述两种方法制作太赫兹材料的PET膜，在降低反射方面性能不佳，同时制作成本较高，无法满足市场的需求。

发明内容

本发明提供的发明目的在于提供一种太赫兹材料制作PET膜的制作方法。该太赫兹材料制作PET膜的制作方法，可以解降低反射效果不佳、制作成本高的问题。

为了实现上述降低反射效果不佳、制作成本高的问题，本发明提供如下技术方案：一种太赫兹材料制作PET膜的制作方法，包括以下步骤：

S1、灼烧：选择30×30cm²的硅基，将选用的硅基置于燃烧炉中进行灼烧。

S2、化学清洗：对灼烧后的硅基置于清洗溶液内，进行化学清洗。

S3、物理清洗：将酸洗后的硅基置于平板擦洗机内，进行物理清洗。

S4、风干处理：对物理清洗后的硅基置于风干机中进行风干，得到待用的硅基。

S5、压印非金属介质薄膜：将待用的硅基置于热压机中，在150-200°C条件下，将非金属介质薄膜压印到硅基上。

S6、压印金-聚酰亚胺薄膜：在150-200°C条件下，将金-聚酰亚胺薄膜通过热压机压印到非金属介质薄膜上，在150-200°C条件下，将另一片金-聚酰亚胺薄膜通过热压机压印到前一个金-聚酰亚胺薄膜上，即可得到太赫兹超材料增透膜。

S7、压印PET膜：在250-280°C条件下，将S6中得到的太赫兹超材料增透膜通过热压机压印到PET膜上，即可得到太赫兹材料制作PET膜。

进一步的，根据S1中的操作步骤，高温灼烧的温度为600-700°C，灼烧时间为2-3min。

进一步的，根据S2中的操作步骤，清洗溶液为酸溶液，选自SPM酸溶液,SPM酸溶液由95%浓硫酸和25%双氧水按照35:1的比例混合制成，清洗温度为105-120°C条件下，清洗时间为15-25min。

进一步的，根据S3中的操作步骤，将硅基水平放置在平板擦洗机的滚轴上，由滚轴带动硅基向前移动，硅基正面接触与滚轴同向旋转的刷头，实现物理清洗，再将硅基翻面，对另一侧进行物理清洗。