[发明专利]一种智能清洗薄膜沉积腔室的方法及系统在审
申请号: | 202010423042.1 | 申请日: | 2020-05-19 |
公开(公告)号: | CN113686802A | 公开(公告)日: | 2021-11-23 |
发明(设计)人: | 邹荣园;邹志文;崔虎山;范思大;丁光辉;吴志浩;许开东 | 申请(专利权)人: | 江苏鲁汶仪器有限公司 |
主分类号: | G01N21/3563 | 分类号: | G01N21/3563;H01J37/32 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 马严龙 |
地址: | 221300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 智能 清洗 薄膜 沉积 方法 系统 | ||
1.一种智能清洗薄膜沉积腔室系统,其特征在于:包括采集模块、处理分析模块和清洗模块;
所述采集模块包括傅里叶红外光谱仪和薄膜沉积腔室(1),傅里叶红外光谱仪包括外光光源、干涉仪、检测器,所述薄膜沉积腔室(1)为中空的圆柱结构,薄膜沉积腔室(1)的腔壁上开设有至少一对光束穿透孔(2),光束穿透孔(2)上密封设有透明观察窗(3),傅里叶红外光谱仪的外光光源发出的红外光线经干涉仪穿过上述的一对光束穿透孔的透明观察窗(3)至检测器;
所述处理分析模块包括数据库和运算程序,所述数据库包含各个含硅元素化学键的预设强度值;所述运算程序可自动对比含硅元素化学键的实际强度值与含硅元素化学键预设强度值,并向清洗模块发送指令;
所述清洗模块包括清洗预警以及用于降低各个含硅元素化学键强度值的清洗程序,清洗预警接收处理分析模块发送的指令,清洗程序包括对应各个含硅元素化学键的清洗菜单。
2.根据权利要求1所述的一种智能清洗薄膜沉积腔室系统,其特征在于:所述薄膜沉积腔室(1)上开设的一对光束穿透孔(2),位于圆柱结构的一条直径两端。
3.根据权利要求1所述的一种智能清洗薄膜沉积腔室系统,其特征在于:所述数据库包含的含硅元素化学键为Si-F键、Si-H键、Si-O键、Si-N键、Si-C键。
4.根据权利要求1所述的一种智能清洗薄膜沉积腔室系统,其特征在于:所述透明观察窗(3)的材质为蓝宝石或石英玻璃材质。
5.根据权利要求1-3中任一的一种智能清洗薄膜沉积腔室系统的清洗方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一:设备闲置时,傅里叶红外光谱仪开启,傅里叶红外光谱仪通过薄膜沉积腔室(1)四周的腔壁上开设的若干对光束穿透孔(2)发射经干涉仪的红外光线,该光谱仪的检测器进行接收经过透明观察窗(3)以后的光谱;
步骤二:检测器将光谱中各个含硅元素化学键的含量转换为各个含硅元素化学键的实际强度值,并通过运算程序与数据库里对应的各个含硅元素化学键的预设强度值进行对比,此时傅里叶红外光谱仪暂停收发光谱;
步骤三:当处理分析模块将实际强度值小于预设强度值时,不进行清洗,薄膜沉积腔室(1)处于可使用状态;当处理分析模块将实际强度值大于预设强度值的含硅元素化学键筛选出,并将筛选信息发送至清洗模块;
步骤四:清洗模块接收信号后报警,等待人工选择合适的清洗菜单进行清洗;
步骤五:若无人工操作相应,系统自动选择默认清洗菜单进行清洗;
步骤六:清洗完毕后傅里叶红外光谱仪再次收发光谱,检测透明观察窗(3)内各个含硅元素化学键的含量,若各个含硅元素化学键的实际强度值低于其预设强度时,不进行清洗,薄膜沉积腔室(1)处于可使用状态;若对含硅元素化学键的实际强度值高于其预设强度时,重复步骤四和步骤五;
步骤七:多次使用傅里叶红外光谱仪检测透明观察窗(3)内各个含硅元素化学键的含量,直至无含硅元素化学键的实际强度值高于其预设强度,此时清洗工作完毕。
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