[发明专利]数码拼图模块数据库的建立方法以及拼图方法、存储介质

说明书

本发明公开一种数码拼图模块数据库的建立方法以及拼图方法、存储介质，属于图像处理技术领域。通过基于不同基础矩形单元数量下获得的所有基础矩形单元组合；并通过旋转对称法缩减，形成数码拼图初始模块；再经基础矩形单元数量、边界、填充、间隔等参数对数码拼图初始模块进行分级、排序，获得所有数码拼图模块；在用户指定待拼图区域及选定数码拼图模块时，用数码拼图模块实现待拼图区域转换成的拼合区域适应图的模块化填充，再经切除和补充填充处理形成待拼图区域的模块化填充图，实现用户对数码拼图的操作简洁、拼图效果可控、拼合图案多样的需求。

技术领域

本发明涉及图像处理技术领域，特别涉及一种数码拼图模块数据库的建立方法以及拼图方法、存储介质。

背景技术

数码拼图图案作为一种典型的图案形式，广泛应用于广告设计、教育教学、儿童玩具、车辆涂装、墙体装饰、人工绿化等领域。目前数码拼图一般采用“自下而上”和“自上而下”两个设计模式。其中，“自下而上”的设计模式采用在待拼图区域上人工放置一些随机设计的模块来实现数码拼图图案；“自上而下”的设计模式则是对待拼图区域进行多次的分割来生成数码拼图模块，进而构成数码拼图图案。

然而，目前采用的这两种设计模式也存在如下不足：

(1)用户操作耗时、繁琐。“自下而上”的设计模式由于采用人工操作方式，涉及到大量的模块旋转、对称等操作，也涉及到模块相对位置的反复调整操作；“自上而下”的设计模式需要大量的时间来研究确定切割方法，由于切割方法种类众多，通过此方式获得所需的数码拼图模块系列需要耗费大量的时间和精力，且待拼图区域改变时，还需要重新对切割方法进行研究；

(2)拼图效果不易控制。“自下而上”设计模式的人工操作方式和“自上而下”设计模式的切割方式比较适合于拼图模块随机分布的数码拼图图案的生成。在用户指定数码拼图模块种类的情况下，很难通过两种模式实现拼图图案的生成；

(3)拼合图案可选性差。“自下而上”设计模式的人工操作方式和“自上而下”设计模式的切割方式可形成数量庞大的数码拼合图案，但这些图案属于随机图案，在用户指定数码拼图模块种类的情况下生成一种的拼合图案已非常困难，生成第二种、第三种数码拼合图案的难度会更大。较少的可用拼合图案数量将大大制约用户在实际应用时的灵活度。

因此，市面上需要一种操作简洁、拼图效果可控、拼合图案多样的拼图方式。

发明内容

本发明的目的在于提供一种数码拼图模块数据库的建立方法以及拼图方法、存储介质，以解决现有数码拼图方法存在拼图效果不易控制、拼合图案可选性差且用户操作耗时、繁琐的问题。

为解决上述技术问题，本发明提供一种数码拼图模块数据库的建立方法，包括：

在基础矩形单元的数量一定时，通过枚举法获得该数量下的所有基础矩形单元组合，其中基础矩形单元的数量不少于1个；

采用旋转对称比对法，对基础矩形单元组合进行缩减，形成数码拼图初始模块；

通过基础矩形单元的数量、边界参数、填充参数和间隔参数对数码拼图初始模块进行分级、排序及编号，形成数码拼图模块；

将每个编号的数码拼图模块保存在数据库中，形成分级排序、连续编号的数码拼图模块数据库；其中，

所述基础矩形单元数量为数码拼图初始模块所对应的基础矩形单元数量；所述基础矩形单元数量越大，数码拼图初始模块对待拼图区域的填充比例越大，反之，数码拼图初始模块对待拼图区域的填充比例越小；不同的基础矩形单元数量提供了填充比例较大到较小，以及介于二者之间的数量众多、可灵活选用的待选模块；

所述边界参数为数码拼图初始模块边界上的总边数与基础矩形单元数量的比例关系；比例值越大，相应模块的边界情况越不规则，反之，相应模块的边界情况越规则；不同数值的边界参数提供了边界从不规则到规则，以及介于二者之间的数量众多、可灵活选用的待选模块；