[发明专利]核-边结构的碳化物MXene/SiO2有效

专利信息
申请号: 202010424641.5 申请日: 2020-05-19
公开(公告)号: CN111574958B 公开(公告)日: 2023-03-21
发明(设计)人: 王连军;郭蕊;范宇驰;刘付胜聪;江莞 申请(专利权)人: 东华大学
主分类号: C09K3/00 分类号: C09K3/00;C01B33/12;C01B32/90
代理公司: 上海泰能知识产权代理事务所(普通合伙) 31233 代理人: 魏峯;黄志达
地址: 201620 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 结构 碳化物 mxene sio base sub
【权利要求书】:

1.一种二维MXene基纳米板状超薄吸波材料,其特征在于,所述吸波材料由Ti3C2Tx和SiO2组成,所述吸波材料为具有核边结构的二维纳米板状材料,是以MXene为核,SiO2为壳,中间薄,边缘厚的核边结构;

所述二维MXene基纳米板状超薄吸波材料的制备方法,包括:

(1)将Ti3AlC2与刻蚀剂混合,刻蚀反应,洗涤,离心,得到剥离完全的Ti3C2Tx胶体溶液,真空环境下冻干,得到Ti3C2Tx片层材料;

(2)将步骤(1)中Ti3C2Tx片层材料分散于混合溶剂中,超声,调节pH为碱性,然后滴加硅源,搅拌反应,离心洗涤,干燥,得到MXene/SiO2复合材料,即二维MXene基纳米板状超薄吸波材料,其中Ti3C2Tx片层材料与硅源的用量比为28-35mg:0.8-1.2mL,混合溶剂为水和无水乙醇,搅拌反应温度为室温,搅拌反应时间为15-20h。

2.根据权利要求1所述吸波材料,其特征在于,所述Ti3C2Tx和SiO2的质量比值为0.8-1.12。

3.一种二维MXene基纳米板状超薄吸波材料的制备方法,包括:

(1)将Ti3AlC2与刻蚀剂混合,刻蚀反应,洗涤,离心,得到剥离完全的Ti3C2Tx胶体溶液,真空环境下冻干,得到Ti3C2Tx片层材料;

(2)将步骤(1)中Ti3C2Tx片层材料分散于混合溶剂中,超声,调节pH为碱性,然后滴加硅源,搅拌反应,离心洗涤,干燥,得到MXene/SiO2复合材料,即二维MXene基纳米板状超薄吸波材料,其中Ti3C2Tx片层材料与硅源的用量比为28-35mg:0.8-1.2mL,混合溶剂为水和无水乙醇,搅拌反应温度为室温,搅拌反应时间为15-20h。

4.根据权利要求3所述方法,其特征在于,所述步骤(1)中刻蚀剂为LiF和HCl;所述LiF和Ti3AlC2的质量比值为0.7-1.6,HCl溶液的的摩尔量为6-9mol/L。

5.根据权利要求3所述方法,其特征在于,所述步骤(1)中刻蚀反应温度为30-40℃,刻蚀反应时间为24-48h。

6.根据权利要求3所述方法,其特征在于,所述步骤(2)中硅源为正硅酸四乙酯。

7.根据权利要求3所述方法,其特征在于,所述步骤(2)中超声时间为45-60min;调节pH为10。

8.一种如权利要求1所述吸波材料在飞行器隐身、电磁屏蔽、电磁防护和微波暗室中的应用。

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