[发明专利]一种被动调Q激光器在审
申请号: | 202010426014.5 | 申请日: | 2020-05-19 |
公开(公告)号: | CN111478171A | 公开(公告)日: | 2020-07-31 |
发明(设计)人: | 廖文斌;陈雨金;张戈;黄艺东;李丙轩;林炎富 | 申请(专利权)人: | 中国科学院福建物质结构研究所 |
主分类号: | H01S3/11 | 分类号: | H01S3/11;H01S3/091 |
代理公司: | 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 | 代理人: | 史冬梅 |
地址: | 350002 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 被动 激光器 | ||
1.一种被动调Q激光器,其特征在于,包括多个工作周期、工作占空比均相同的泵浦源和设置在多个所述泵浦源出光侧的一个谐振腔;
多个所述泵浦源,用于在一个工作周期内,以固定时间间隔依次发射泵浦光;
所述泵浦源的脉宽与所述固定时间间隔相等;
所述谐振腔,利用多个所述泵浦光泵浦所述谐振腔内的激光晶体,得到多束从所述激光晶体不同位置出射的激光,每束所述激光在所述谐振腔内多次反射后出射,得到连续脉冲激光。
2.根据权利要求1所述的被动调Q激光器,其特征在于,还包括设置于所述谐振腔出光侧的分光片和信号反馈系统;
所述分光片,用于将每束泵浦光对应的所述脉冲激光中的一部分反射至所述信号反馈系统,另一部分透射;
所述信号反馈系统,用于监测所有所述脉冲激光在时间域上的分布情况,并根据所述分布情况调整多个所述泵浦源的出光顺序。
3.根据权利要求1所述的被动调Q激光器,其特征在于,所述泵浦源的数量根据第一公式确定;所述第一公式为:
N=1/D
式中,N为所述泵浦源的数量,D为所述泵浦源的工作占空比。
4.根据权利要求1所述的被动调Q激光器,其特征在于,所述固定时间间隔根据第二公式确定;所述第二公式为:
ΔT=D×T
式中,ΔT为所述固定时间间隔,D为所述泵浦源的工作占空比,T为所述泵浦源的工作周期。
5.根据权利要求1所述的被动调Q激光器,其特征在于,多个所述泵浦源发射的泵浦光呈分散形式入射至所述激光晶体的不同位置。
6.根据权利要求5所述的被动调Q激光器,其特征在于,多个所述泵浦源呈阵列排布。
7.根据权利要求1所述的被动调Q激光器,其特征在于,还包括设置于多个所述泵浦源和所述谐振腔之间的耦合透镜组;
所述耦合透镜组,用于调整入射至所述激光晶体的泵浦光半径。
8.根据权利要求7所述的被动调Q激光器,其特征在于,所述耦合透镜组包括同轴且凸面相对设置的两个凸透镜。
9.根据权利要求7所述的被动调Q激光器,其特征在于,还包括设置于多个所述泵浦源和所述耦合透镜组之间的分光路由;
所述分光路由,用于分隔多个泵浦源发射的泵浦光。
10.根据权利要求1~9任一项所述的被动调Q激光器,其特征在于,所述谐振腔包括依次设置的泵浦镜、激光晶体和耦合输出镜;
所述泵浦镜,用于透射所述泵浦光以及反射来自所述激光晶体出射的激光;
所述激光晶体,将经由所述泵浦镜透射的所述泵浦光转变为激光,并增强入射至所述激光晶体的激光光强;
所述耦合输出镜,用于反射和部分透射来自所述激光晶体出射的激光,透射的所述激光为脉冲激光。
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