[发明专利]一种大功率半导体器件的制造装置及其使用方法在审

专利信息
申请号: 202010426622.6 申请日: 2020-05-19
公开(公告)号: CN111584402A 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 陈国辉 申请(专利权)人: 陈国辉
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 大功率 半导体器件 制造 装置 及其 使用方法
【权利要求书】:

1.一种大功率半导体器件的制造装置,包括重金属去除箱(1)和溶液箱(2),所述重金属去除箱(1)内部安装有加热装置,所述溶液箱(2)内填充有焦性没食子酸溶液,所述溶液箱(2)位于重金属去除箱(1)左侧,所述重金属去除箱(1)和溶液箱(2)之间固定连接有第一导管(4)和第二导管(5),所述第二导管(5)位于第一导管(4)上侧,所述第一导管(4)外端安装有气泵(401),所述气泵(401)位于重金属去除箱(1)内,所述重金属去除箱(1)、溶液箱(2)、第一导管(4)和第二导管(5)均相互连通,其特征在于:所述重金属去除箱(1)内壁固定连接有分隔座(3),所述重金属去除箱(1)前后内壁固定连接有活动辊(6),所述活动辊(6)包括一对固定柱(7),所述固定柱(7)与重金属去除箱(1)前后内壁固定连接,两个所述固定柱(7)之间设有柱形气囊(8),所述固定柱(7)外端转动连接有外放置框(9),所述外放置框(9)外端开凿有多个均匀分布的插孔(10),所述插孔(10)内插设有活动杆(11),所述活动杆(11)外端固定连接有弧形摩擦垫(13),所述弧形摩擦垫(13)位于外放置框(9)内,所述弧形摩擦垫(13)与外放置框(9)内壁固定连接有压缩弹簧(12),所述压缩弹簧(12)位于活动杆(11)外侧,所述固定柱(7)外端固定连接有摩擦层(14),所述摩擦层(14)位于弧形摩擦垫(13)内侧且与弧形摩擦垫(13)相互接触,所述活动杆(11)远离弧形摩擦垫(13)的一端固定连接有固定底板(15),所述固定底板(15)外端转动连接有转动夹板(16),所述转动夹板(16)与固定底板(15)转动连接处设有扭力弹簧,所述重金属去除箱(1)内设有多个外搅拌球囊(17),所述外搅拌球囊(17)位于分隔座(3)上侧,所述重金属去除箱(1)底端设有收集框(25),所述收集框(25)位于分隔座(3)下侧。

2.根据权利要求1所述的一种大功率半导体器件的制造装置,其特征在于:所述外搅拌球囊(17)内设有一对内活动球囊(18),所述内活动球囊(18)与外搅拌球囊(17)内壁固定连接有弹性连接绳(19),所述外搅拌球囊(17)内壁固定连接有外保护套环(20),所述外保护套环(20)位于内活动球囊(18)外侧,所述内活动球囊(18)左右两端均固定连接有接触垫(21),所述接触垫(21)位于外保护套环(20)内且与外保护套环(20)的内壁相抵,两个所述内活动球囊(18)相互靠近的一端均固定连接有磁铁块(22)。

3.根据权利要求1所述的一种大功率半导体器件的制造装置,其特征在于:所述分隔座(3)底端开凿有收集孔(23),所述收集孔(23)内壁固定连接有多个均匀分布的侧向导板(24),所述收集框(25)外端固定连接有拉杆(2501),所述拉杆(2501)表面刻有防滑纹,所述收集框(25)位于收集孔(23)正下侧,所述收集框(25)与重金属去除箱(1)的内底端和分隔座(3)的底端相抵,所述收集框(25)上端开凿有竖向通孔(26),所述收集框(25)外端开凿有侧向通孔(27),所述侧向通孔(27)内壁固定连接有过滤网(28),所述竖向通孔(26)内壁卡接有棉布袋(29),所述棉布袋(29)位于收集框(25)内。

4.根据权利要求1所述的一种大功率半导体器件的制造装置,其特征在于:所述重金属去除箱(1)上端安装有第一封闭门(101),所述重金属去除箱(1)右端安装有第二封闭门(102),所述第二封闭门(102)位于分隔座(3)下侧。

5.根据权利要求1所述的一种大功率半导体器件的制造装置,其特征在于:所述溶液箱(2)上端开凿有添加孔,所述添加孔内螺纹连接有密封塞(201)。

6.根据权利要求1所述的一种大功率半导体器件的制造装置,其特征在于:所述固定柱(7)和柱形气囊(8)之间固定连接有限位圆板(701),所述限位圆板(701)位于外放置框(9)内且与外放置框(9)的左右内壁相抵,所述限位圆板(701)和外放置框(9)相互接触处均设有抛光层。

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