[发明专利]一种阴极辊精密研磨抛光方法

权利要求书

1.一种阴极辊精密研磨抛光方法，其特征在于，所述方法步骤包括：

(1)在密闭无尘环境中放置研磨床，利用纯水浸泡粒度分别为60目、120目、320目、600目、800目、1000目抛光轮，直到彻底浸透，将待处理阴极辊置于阴极辊转动架上；

(2)采用经浸泡过的粒度为60目抛光轮、120目抛光轮依次对阴极辊进行表面粗磨；

(3)采用经浸泡过的粒度为320目抛光轮、600目抛光轮依次对经步骤(2)得到的阴极辊进行表面精磨；

(4)对经步骤(3)得到的阴极辊进行表面清洗；

(5)采用经浸泡过的粒度为800目抛光轮、1000目抛光轮依次对经步骤(4)得到的阴极辊进行表面精抛；

(6)对经步骤(5)得到的阴极辊进行表面清洗。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(2)研磨压力为0.14MPa～0.16MPa，阴极辊转速为8～10r/min，抛光轮转速为350～450r/min，抛光轮平移速度为80～100mm/min。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(3)研磨压力为0.12MPa～0.14MPa，阴极辊转速为8～10r/min，抛光轮转速为350～450r/min，抛光轮平移速度为70～100mm/min。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(5)研磨压力为0.10MPa～0.12MPa，阴极辊转速8～10r/min，抛光轮转速为350～450r/min，抛光轮平移速度为50～60mm/min。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述步骤(4)和步骤(6)表面清洗均为：依次采用百洁布、海绵、洗涤剂、稀硫酸铜溶液对阴极辊进行表面清洗。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述稀硫酸铜溶液浓度为20％。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述纯水电导率≤1.0μs/cm。