[发明专利]具有低细胞渗透性的BCL-XL抑制性化合物以及包括它的抗体药物缀合物在审
申请号: | 202010429315.3 | 申请日: | 2015-12-09 |
公开(公告)号: | CN111620861A | 公开(公告)日: | 2020-09-04 |
发明(设计)人: | 陶志福;G.多赫蒂;王锡禄;G.M.萨利文;宋晓宏;A.R.昆策尔;M.D.温德特;V.L.马林;R.R.弗里;S.C.卡伦;D.S.维尔希;沈小强;N.B班尼特;A.R.海特;S.L.阿克勒;E.R.博海尔特;A.J.索尔斯;A.S.朱德 | 申请(专利权)人: | 艾伯维公司 |
主分类号: | C07D417/14 | 分类号: | C07D417/14;C07H15/04;C07H15/203;C07F9/6558;C07D513/04;C07F9/6561 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 李唐 |
地址: | 美国伊*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 细胞 渗透性 bcl xl 抑制 化合物 以及 包括 抗体 药物 缀合物 | ||
1.按照结构式(IIa)、(IIb)、(IIc)或(IId)的Bcl-xL抑制剂,或其可药用盐,
其中:
Ar1选自、、、、、、、和,并且任选被一个或多个独立地选自下列的取代基取代:卤素、羟基、硝基、低级烃基、低级杂烃基、烷氧基、氨基、氰基和卤代甲基;
Ar2选自、、、、、、、、、和,并且任选被一个或多个独立地选自下列的取代基取代:卤素、羟基、硝基、低级烃基、低级杂烃基、烷氧基、氨基、氰基和卤代甲基,其中,R12-Z2b-、R'-Z2b-、#-N(R4)-R13-Z2b-或#-R'-Z2b-取代基在能够被取代的任何Ar2原子处与Ar2连接;
Z1选自N、CH、C-卤素、C-CH3和C-CN;
Z2a和Z2b各自彼此独立地选自键、NR6、CR6aR6b、O、S、S(O)、SO2、-NR6C(O)-、-NR6aC(O)NR6b-和-NR6C(O)O-;
R’是或,其中,在#连接R'的情况下,在能够被取代的任何R'原子处与R'相连接;
X'在每次出现时选自:-N(R10)-、-N(R10)C(O)-、-N(R10)S(O)2-、-S(O)2N(R10)-和-O-;
n选自0-3;
R10在每次出现时独立地选自氢、烃基、杂环、氨基烃基、G-烃基、杂环和-(CH2)2-O-(CH2)2-O-(CH2)2-NH2;
G在每次出现时独立地选自多元醇、具有4至30个重复单元的聚乙二醇、盐和在生理pH下带电荷的部分;
SPa在每次出现时独立地选自氧、-S(O)2N(H)-、-N(H)S(O)2-、-N(H)C(O)-、-C(O)N(H)-、-N(H)-、亚芳基、亚杂环基和任选取代的亚甲基;其中亚甲基任选被一个或多个-NH(CH2)2G、NH2、烃基和羰基取代;
m选自0-12;
R1选自氢、甲基、卤素、卤代甲基、乙基和氰基;
R2选自氢、甲基、卤素、卤代甲基和氰基;
R3选自氢、甲基、乙基、卤代甲基和卤代乙基;
R4选自氢、低级烃基和低级杂烃基,或与R13的原子一起形成具有3至7个之间的环原子的环烃基或杂环基环;
R6、R6a和R6b各自彼此独立地选自氢、任选取代的低级烃基、任选取代的低级杂烃基、任选取代的环烃基和任选取代的杂环基,或与源自R4的原子一起和在源自R13的原子处形成具有3至7个之间的环原子的环烃基或杂环基环;
R11a和R11b各自彼此独立地选自氢、卤素、甲基、乙基、卤代甲基、羟基、甲氧基、CN和SCH3;
R12任选是R',或选自氢、卤素、氰基、任选取代的烃基、任选取代的杂烃基、任选取代的杂环基和任选取代的环烃基;
R13选自任选取代的亚烃基、任选取代的杂亚烃基、任选取代的亚杂环基和任选取代的环亚烃基;和
#代表氢原子或与连接子L的连接点。
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