[发明专利]一种双面透明导电膜及制备方法

权利要求书

1.一种耐弯折的双面透明导电膜，其特征在于，包括：

粘合胶层；

所述粘合胶层的两面分别设有第一导电层和第二导电层；

其中，所述第一导电层和所述第二导电层分别由金属纳米线组成，所述第一导电层的表面方阻为10～15Ω/□，所述第二导电层的表面方阻为10～15Ω/□。

2.根据权利要求1所述的耐弯折的双面透明导电膜，其特征在于，所述粘合胶层包括UV胶层、热固化胶层中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的耐弯折的双面透明导电膜，其特征在于，所述粘合胶层的厚度为1～1000μm，所述第一导电层的厚度为50～500nm，所述第二导电层的厚度为50～500nm。

4.根据权利要求1所述的耐弯折的双面透明导电膜，其特征在于，所述第一导电层远离所述粘合胶层的一侧设有第一基板。

5.根据权利要求4所述的耐弯折的双面透明导电膜，其特征在于，所述第一基板包括PET基板、PI基板、玻璃基板中的至少一种。

6.根据权利要求4所述的耐弯折的双面透明导电膜，其特征在于，所述第二导电层远离所述粘合胶层的一侧设有第二基板。

7.根据权利要求6所述的耐弯折的双面透明导电膜，其特征在于，所述第二基板包括PET基板、PI基板、玻璃基板中的至少一种。

8.根据权利要求6所述的耐弯折的双面透明导电膜，其特征在于，所述第一基板、所述第二基板中的至少之一为可拆卸设置。

9.根据权利要求1所述的耐弯折的双面透明导电膜，其特征在于，所述金属纳米线包括金纳米线、银纳米线、铜纳米线、铁纳米线、钴纳米线、镍纳米线中的至少一种。

10.一种耐弯折的双面透明导电膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、在第一基板上形成第一导电层；

S2、在第二基板上形成第二导电层；

S3、在所述第一导电层上形成粘合胶；

S4、在所述粘合胶上贴附第二导电层；

S5、固化所述粘合胶；

其中，所述第一导电层和所述第二导电层分别由金属纳米线组成，所述第一导电层的表面方阻为10～15Ω/□，所述第二导电层的表面方阻为10～15Ω/□。

11.根据权利要求10所述的耐弯折的双面透明导电膜的制备方法，其特征在于，所述粘合胶包括UV胶、热固化胶中的至少一种。

12.根据权利要求11所述的耐弯折的双面透明导电膜的制备方法，其特征在于，所述粘合胶包括环氧树脂、丙烯酸树脂、聚氨酯中的至少一种。

13.根据权利要求10所述的耐弯折的双面透明导电膜的制备方法，其特征在于，所述第一导电层由金属纳米线组成，步骤S1包括：在第一基板上先涂覆金属纳米线分散液，所述金属纳米线分散液包括金属纳米线和分散剂，后去除所述金属纳米线分散液中的分散剂形成第一导电层。

14.根据权利要求10所述的耐弯折的双面透明导电膜的制备方法，其特征在于，所述第二导电层由金属纳米线组成，步骤S2包括：在第二基板上先涂覆金属纳米线分散液，后去除所述金属纳米线分散液中的分散剂形成第二导电层。

15.根据权利要求14所述的耐弯折的双面透明导电膜的制备方法，其特征在于，在所述金属纳米线分散液中，所述金属纳米线的重量百分含量为0.1～1wt％。