[发明专利]一种胶黏剂粘接面粘接状态快速识别方法在审
申请号: | 202010429995.9 | 申请日: | 2020-05-20 |
公开(公告)号: | CN111735415A | 公开(公告)日: | 2020-10-02 |
发明(设计)人: | 何广洲;曹建强 | 申请(专利权)人: | 迪马新材料科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | G01B15/00 | 分类号: | G01B15/00;G01B15/02;G01N23/18 |
代理公司: | 苏州智品专利代理事务所(普通合伙) 32345 | 代理人: | 王利斌 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 胶黏剂粘接面粘接 状态 快速 识别 方法 | ||
本发明公开了一种胶黏剂粘接面粘接状态快速识别方法,包括以下步骤,S1)将显示材料均匀的分散于胶黏剂中,并将二者混合物涂覆于基材的粘接面处使其粘合,显示材料形成X‑Y离子键结构,其中Y为阴离子酸根形态,X为原子序数大于等于12的金属离子形态,显示材料的密度ρ≥1.5g/cm3,且该显示材料密度与基材密度之差大于等于0.5g/cm3;S2)对粘合后的基材进行施压,并静置;S3)将粘合后的基材通过X射线仪照射粘接面,以数据形式在显示仪器上显示粘结面摊开程度和粘接厚度。本发明无需将粘接基材破坏,可通过X射线仪识别显示材料从而快速检测粘接面的摊开面积和粘接厚度,检测效率高,检测精度准,且可全部样品检测,不再出现漏检问题。
技术领域
本发明涉及胶黏剂应用技术领域,尤其涉及一种胶黏剂粘接面粘接状态快速识别方法。
背景技术
胶黏剂已经在生产、生活、组装、建造等各个领域发挥粘接作用。粘接性能的好坏通常遵照相应检验标准进行测试评估,测试合格后才开始投入,并在实际应用过程中进行抽检,随时观察粘接强度的变化,判断是否合格。由于抽样的随即性、不稳定性,不可避免的就会造成了不良产品的漏检现象,漏检轻则质量问题、重则安全事故。
我们分析了胶黏剂粘接性能不良的可能原因:一是胶黏剂品质问题,胶黏剂产品在出厂前和客户收货后大多数会做出检验,可排除胶黏剂品质造成的不良问题。二是施工过程易出问题,如:施胶后,未在操作时间内进行有效压合,导致胶体凝胶或者固化,导致粘接不良;另外,在操作时间内,施加的压力不够,胶体没能够均匀铺展开,胶层未达到理想宽度、厚度等,造成有效粘接面积不足,粘接强度低于合格数值,产出不良品。而胶体在被粘接基材之间是何种分布状态,我们是无法通过肉眼识别的。通常通过破坏粘接基材识别粘接面情况,而破坏的基材无法再使用,造成损失。在不破坏基材的基础上,对粘接面情况进行识别,目前市面上还没有这样一种方法。为此,建立起一种快速识别粘接面状态的方法已显得非常必要。
发明内容
本发明的目的在于提供一种胶黏剂粘接面粘接状态快速识别方法,无需将粘接基材破坏,可通过X射线仪识别显示材料从而快速检测粘接面的摊开面积和粘接厚度,检测效率高,检测精度准,且可全部样品检测,不再出现漏检问题。
为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:一种胶黏剂粘接面粘接状态快速识别方法,包括以下步骤,
S1)将显示材料均匀的分散于胶黏剂中,并将二者混合物涂覆于基材的粘接面处使其粘合,所述显示材料形成X-Y离子键结构,其中Y为阴离子酸根形态,X为原子序数大于等于12的金属离子形态,所述显示材料的密度ρ≥1.5g/cm3,且该显示材料密度与所述基材密度之差大于等于0.5g/cm3;
S2)对粘合后的基材进行施压,并静置;
S3)将粘合后的基材通过X射线仪照射粘接面,以数据形式在显示仪器上显示粘结面摊开程度和粘接厚度,显示材料密度与基材密度差必须大于等于1.5g/cm3,X射线照射后才能够显现出粘接面的图像数据,密度差越大,图像越清晰。
作为进一步的优化,所述Y为磷酸根、硫酸根、碳酸根或硝酸根中的一种;所述X为钡离子、镁离子或钙离子中的一种。
作为进一步的优化,所述显示材料形态为液态或固态,其均匀的分布于粘接面中,通过酸根离子与金属离子结合形成固态或液态的颗粒,可被X射线探测。
作为进一步的优化,所述显示材料中形成的X-Y离子键结构颗粒的粒径为0.02-1000μm。
作为进一步的优化,所述显示材料与所述胶黏剂的体积比或重量比大于0.05%。
作为进一步的优化,所述S3中还包括设置粘接面标准粘接状态数据,与测量数据实现对比。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于迪马新材料科技(苏州)有限公司,未经迪马新材料科技(苏州)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010429995.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。