[发明专利]一种石英坩埚回收处理装置

说明书

本发明涉及一种化工领域，尤其涉及一种石英坩埚回收处理装置。本发明要解决的技术问题是提供一种石英坩埚回收处理装置。一种石英坩埚回收处理装置，包括支架，控制屏，电机，位置调节机构，内壁清理机构，底壁清理机构和储料舱；支架左端中顶部设置有控制屏。本发明达到了对石英坩埚长期使用后由于析晶遗留下的晶层进行刮除，同时通过酸液与石英坩埚内壁的二氧化钡涂层反应，将二氧化钡涂层剔除，并且将石英坩埚底壁由于长期灼烧导致的黑色杂质层进行刮除，留下可再次回收利用的石英坩埚原料的效果。

技术领域

本发明涉及一种化工领域，尤其涉及一种石英坩埚回收处理装置。

背景技术

石英坩埚，具有高纯度、耐温性强、尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点，应用越来越广泛，石英坩埚可在1450度以下使用，分透明和不透明两种，用电弧法制的半透明石英坩埚是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路必不可少的基础材料。

石英坩埚是利用高纯石英砂经过熔制而成，石英坩埚实际上已经成为Si02含量极高、Fe203等杂质含量极低的非晶态Si02，具有热膨胀系数小、抗热振稳定性强、透明度高等优点。在生产过程中每生产1吨石英坩埚要有0.25吨的废石英坩埚。因此，综合利用这些石英坩埚废料制备高附加值的产品不仅可以解决企业污染难题，而且可以创造较高的经济价值。

目前坩埚生产涂层技术已被大多数厂家使用就是在普通石英砂溶制的坩埚表面涂上一层二氧化钡溶液使其形成致密层，但是在石英坩埚回收时需将二氧化钡致密层去除得到纯石英砂，并且在石英坩埚使用时会产生析晶现象，析晶通常发生在石英坩埚的表层，会在表层形成一层晶层，同时石英坩埚底壁长期受高温灼烧，会在底壁形成一层黑色杂质层，在回收时需将晶层及黑色杂质层去除后，但是在现有技术中一般直接对石英坩埚进行破碎处理，从而导致在碎砂中混有大量杂质，使回收得到的石英砂质量低下，并且达不到使用标准。

目前需要研发一种石英坩埚回收处理装置，来克服上述缺点。

发明内容

本发明为了克服目前坩埚生产涂层技术已被大多数厂家使用就是在普通石英砂溶制的坩埚表面涂上一层二氧化钡溶液使其形成致密层，但是在石英坩埚回收时需将二氧化钡致密层去除得到纯石英砂，并且在石英坩埚使用时会产生析晶现象，析晶通常发生在石英坩埚的表层，会在表层形成一层晶层，同时石英坩埚底壁长期受高温灼烧，会在底壁形成一层黑色杂质层，在回收时需将晶层及黑色杂质层去除后，但是在现有技术中一般直接对石英坩埚进行破碎处理，从而导致在碎砂中混有大量杂质，使回收得到的石英砂质量低下，并且达不到使用标准的缺点，本发明要解决的技术问题是提供一种石英坩埚回收处理装置。

本发明由以下具体技术手段所达成：

一种石英坩埚回收处理装置，包括支架，控制屏，电机，位置调节机构，内壁清理机构，底壁清理机构和储料舱；支架左端中顶部设置有控制屏；支架内右底部设置有电机；支架内中底部设置有位置调节机构；支架内顶部设置有内壁清理机构；支架内右底部设置有底壁清理机构，并且底壁清理机构右端底部与电机相连接，而且底壁清理机构左端底部和顶端右部均与位置调节机构相连接，而且底壁清理机构顶端右部与内壁清理机构相连接；支架内底端中部与储料舱进行焊接。