[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括基底、设置在所述基底上的发光单元以及设置在所述发光单元上的降反膜层，所述降反膜层包括设置于所述发光单元上的第一介质层、设置于所述第一介质层上的第一金属层、设置于所述第一金属层上的第二介质层、设置于所述第二介质层上的第二金属层以及设置于所述第二金属层上的第三介质层。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二介质层为所述第一金属层表面形成的第一金属氧化物层，和/或所述第三介质层为所述第二金属层表面形成的第二金属氧化物层。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一金属层和所述第二金属层的厚度为10A-500A。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一介质层、所述第二介质层和所述第三介质层的厚度为50A-2000A。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一金属层和所述第二金属层的材质采用钛、钼、铜、铝或银。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一金属层为沿第一方向延伸的第一触控电极，所述第二金属层为沿第二方向延伸的第二触控电极，所述第一触控电极、所述第二介质层以及所述第二触控电极形成触控膜层。

7.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述第一触控电极和所述第二触控电极的厚度为75-250A。

8.根据权利要求6所述的显示基板，其特征在于，所述第一介质层、所述第二介质层和所述第三介质层采用无机物。

9.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述发光单元与所述降反膜层之间设置有封装层。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-9任一所述的显示基板。

11.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

在基底上形成发光单元；

在所述发光单元上形成第一介质层；

在所述第一介质层上形成第一金属层；

在所述第一金属层上形成第二介质层；

在所述第二介质层上形成第二金属层；

在所述第二金属层上形成第三介质层；

所述第一介质层、所述第一金属层、所述第二介质层、所述第二金属层以及所述第三介质层形成降反膜层。

12.根据权利要求11所述的显示基板的制备方法，其特征在于，在所述第一金属层上形成第二介质层，包括：

对所述第一金属层表面进行氧化处理，使所述第一金属层表面形成金属氧化物膜层，该金属氧化物层为所述第二介质层。

13.一种显示基板的制备方法，其特征在于，包括：

在基底上形成发光单元；

在所述发光单元上形成第一介质层；

在所述第一介质层上形成第一金属薄膜，将所述第一金属薄膜形成沿第一方向延伸的第一触控电极；

在所述第一触控电极上形成第二介质层；

在所述第二介质层上形成第二金属薄膜，将所述第二金属薄膜形成沿第二方向延伸的第二触控电极；

在所述第二触控电极上形成第三介质层；

所述第一介质层、所述第一金属层、所述第二介质层、所述第二金属层以及所述第三介质层形成降反膜层；所述第一触控电极、所述第二介质层以及所述第二触控电极形成触控膜层。