[发明专利]显示基板、显示装置及其补偿方法有效
申请号: | 202010432793.X | 申请日: | 2020-05-20 |
公开(公告)号: | CN111584589B | 公开(公告)日: | 2022-09-09 |
发明(设计)人: | 田宏伟;牛亚男;赵梦;刘明;刘政 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 成亚婷 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 显示装置 及其 补偿 方法 | ||
1.一种显示基板,其特征在于,具有多个岛区和桥区,相邻两个岛区之间连接有所述桥区,所述显示基板包括:
衬底;
设置于所述衬底上的多个子像素,一个岛区内设置有至少一个子像素,一个桥区内设置有至少一条信号线,一个子像素与至少一条信号线耦接;
设置于所述多个子像素远离所述衬底一侧的封装层;
设置于所述封装层远离所述衬底一侧的多条检测线,所述检测线的长度延伸方向与所述显示基板的可拉伸方向平行或呈锐角,且所述检测线被配置为在所述显示基板沿可拉伸方向被拉伸的情况下发生形变而产生电阻值变化;
其中,所述多个岛区呈阵列排布;所述可拉伸方向平行于所述多个岛区排列的行方向,一条所述检测线经过同一行的各岛区之间的桥区;和/或,所述可拉伸方向平行于所述多个岛区排列的列方向,一条所述检测线经过同一列的各岛区之间的桥区;
任意两条所述检测线的长度延伸方向相互平行。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述检测线包括位于所述桥区的多个形变部,和位于所述岛区的多个连接部;
所述多个形变部和所述多个连接部交替布置,且依次串接。
3.根据权利要求2所述的显示基板,其特征在于,所述形变部包括多条形变线段;
至少两条所述形变线段分别位于所述检测线沿其长度延伸方向的中轴线两侧。
4.根据权利要求3所述的显示基板,其特征在于,所述连接部沿所述岛区的边缘设置。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括设置于所述衬底上的多层导电层,所述多层导电层用于形成所述多个子像素的至少一部分;
至少一层导电层包括位于所述桥区的检测电极,所述检测电极在所述衬底上的正投影与所述检测线在所述衬底上的正投影至少部分重叠,以使所述检测电极与所述检测线形成电容。
6.根据权利要求5所述的显示基板,其特征在于,所述显示基板还包括:
设置于所述衬底上且位于所述显示基板的边缘区域的第一参考电阻、第二参考电阻和第三参考电阻;
所述第一参考电阻和所述第二参考电阻串联;所述第三参考电阻和所述检测线串联;串联的所述第一参考电阻和所述第二参考电阻与串联的所述第三参考电阻和所述检测线并联。
7.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述检测线包括由多层金属材料形成的叠层结构;或,
所述检测线的材料包括碳纳米管和聚二甲基硅氧烷形成的导电复合材料。
8.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1至7中任一项所述的显示基板。
9.一种如权利要求8所述的显示装置的补偿方法,其特征在于,所述补偿方法包括:
检测所述显示装置在被拉伸的情况下所述检测线的电阻值变化量;
根据所述电阻值变化量与总拉伸量的对应关系,确定所述检测线的总拉伸量;
根据所述检测线的总拉伸量与所述检测线各区域的拉伸量的对应关系,确定所述检测线各区域的拉伸量;
根据所述检测线各区域的拉伸量,对所述显示装置中位于相应岛区的子像素进行补偿。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的