[发明专利]一种将石墨烯转移至有机玻璃衬底的方法在审
申请号: | 202010438315.X | 申请日: | 2020-05-21 |
公开(公告)号: | CN111620330A | 公开(公告)日: | 2020-09-04 |
发明(设计)人: | 张国栋;刘元;赵玉龙;韦学勇;余旺;孙警;张一中 | 申请(专利权)人: | 西安交通大学 |
主分类号: | C01B32/194 | 分类号: | C01B32/194;C01B32/186 |
代理公司: | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人: | 贺建斌 |
地址: | 710049 陕*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 石墨 转移 有机玻璃 衬底 方法 | ||
1.一种将石墨烯转移至有机玻璃衬底的方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤1:在金属箔上生长单层石墨烯;
步骤2:将石墨烯/金属箔置于两个光滑平整的载体之间,将金属箔压平;
步骤3:在石墨烯表面旋涂一层光刻胶,进行固化;
步骤4:配制金属箔的刻蚀液,将光刻胶/石墨烯/金属箔置于刻蚀液中对金属箔进行刻蚀,在光刻胶的浮力作用下,保证了金属箔与刻蚀液的良好接触;
步骤5:当金属箔刻蚀完成后,用PMMA目标衬底捞取光刻胶/石墨烯;接着将光刻胶/石墨烯释放至去离子水中进行漂洗,漂洗完后将光刻胶/石墨烯/PMMA目标衬底置于平整的实验台上,吹干;然后将光刻胶/石墨烯/PMMA目标衬底置于热板上烘干;
步骤6:对光刻胶/石墨烯/PMMA目标衬底表面的光刻胶进行紫外线曝光;接着利用显影液进行显影,然后用去离子水进行漂洗,最后烘干,完成将石墨烯转移至PMMA目标衬底。
2.根据权利要求1所述的一种将石墨烯转移至有机玻璃衬底的方法,其特征在于:所述的步骤3中的光刻胶采用AZ4620光刻胶,通过两次匀胶固化形成厚度约为3μm的辅助转移层,旋涂参数为:低速500rpm,时间9s;高速1500rpm,时间30s;第一次固化时间5min,温度85℃;第二次固化时间15min,温度85℃。
3.根据权利要求2所述的一种将石墨烯转移至有机玻璃衬底的方法,其特征在于:所述的步骤6中光刻胶通过曝光显影工艺去除,曝光时间为23s;显影液为5‰NaOH溶液,显影时间为2min。
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