[发明专利]一种基于Tamm态诱导的超宽截止窄带通滤波器有效

专利信息
申请号: 202010440783.0 申请日: 2020-05-22
公开(公告)号: CN111580198B 公开(公告)日: 2021-12-31
发明(设计)人: 王少伟;刘清权;赵新潮;周兴雷;陆卫 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00;G02B5/20;G02B1/00
代理公司: 上海沪慧律师事务所 31311 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 tamm 诱导 截止 窄带 滤波器
【权利要求书】:

1.一种基于Tamm态诱导的超宽截止窄带通滤波器,其特征在于:

所述的超宽截止窄带通滤波器的结构自下而上依次为:衬底(1),底层一维光子晶体(2),第一介质层(3),负介电常数材料层(4),第二介质层(5),顶层一维光子晶体(6);

所述的底层一维光子晶体(2)为生长方向垂直于衬底表面的周期性交替介质薄膜,由两种或两种以上的不同折射率的介质材料组成,其光子禁带包含超宽截止窄带通滤波器要求透过的中心波长λ0

所述的顶层一维光子晶体(6)为生长方向垂直于衬底表面的周期性交替介质薄膜,由两种或两种以上的不同折射率的介质材料组成,其光子禁带包含超宽截止窄带通滤波器要求透过的中心波长λ0

所述的第一介质层(3)的厚度要求波长在中心波长λ0的入射光在第一介质层(3)上表面的反射相位满足Tamm等离激元的激发条件:其中k为整数,为负介电常数材料层(4)下表面的反射相位;

所述的第二介质层(5)的厚度要求波长在中心波长λ0的入射光在第二介质层(5)下表面的反射相位满足Tamm等离激元的激发条件:其中k为整数,为负介电常数材料层(4)上表面的反射相位。

2.根据权利要求1所述的基于Tamm态诱导的超宽截止窄带通滤波器,其特征在于:

所述的负介电常数材料层(4)的材料采用金属、合金、超材料或超导材料,其厚度区间为[0.01μm,1μm]。

3.根据权利要求1所述的基于Tamm态诱导的超宽截止窄带通滤波器,其特征在于:

所述的衬底(1)的材料采用硅、二氧化硅、锗、硫化锌、砷化镓、铟镓砷、碲镉汞或有色玻璃。

4.根据权利要求1所述的基于Tamm态诱导的超宽截止窄带通滤波器,其特征在于,在所述的衬底(1)的背面可增加提高窄带通的透过率的增透膜。

5.根据权利要求1所述的基于Tamm态诱导的超宽截止窄带通滤波器,其特征在于,若所述的底层一维光子晶体(2)的上表面反射相位和负介电常数材料层(4)的下表面反射相位在中心波长处满足Tamm等离激元的激发条件其中k为整数,则可去掉第一介质层(3)。

6.根据权利要求1所述的基于Tamm态诱导的超宽截止窄带通滤波器,其特征在于,若所述的顶层一维光子晶体(6)的下表面反射相位和负介电常数材料层(4)的上表面反射相位在中心波长处满足Tamm等离激元的激发条件其中k为整数,则可去掉第二介质层(5)。

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