[发明专利]一种涂层切削刀具及其制备方法有效

专利信息
申请号: 202010441304.7 申请日: 2020-05-22
公开(公告)号: CN111482622B 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 瞿峻;陈响明;王社权;温光华;李秀萍 申请(专利权)人: 株洲钻石切削刀具股份有限公司
主分类号: B23B27/00 分类号: B23B27/00;B23B51/00;B23C5/00;C23C16/36;C23C16/455
代理公司: 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 代理人: 黄丽
地址: 412007 *** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 涂层 切削 刀具 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种涂层切削刀具,其特征在于,包括刀具基体和涂覆于刀具基体上的至少一层耐磨涂层,所述耐磨涂层的总厚度为2μm~25μm,所述耐磨涂层中至少有一层为AlxTi1-xCyN1-y涂层,其中0.35≤x≤0.93,0.35≤x+y≤0.95,所述AlxTi1-xCyN1-y涂层具有(311)晶面择优织构取向,织构系数TC(311)≥1.6。

2.根据权利要求1所述的涂层切削刀具,其特征在于,所述AlxTi1-xCyN1-y涂层具有面心立方晶体结构,所述面心立方晶体结构的占比≥91vol%。

3.根据权利要求2所述的涂层切削刀具,其特征在于,所述面心立方晶体结构的占比为95vol%~98vol%。

4.根据权利要求1所述的涂层切削刀具,其特征在于,所述AlxTi1-xCyN1-y涂层中与所述刀具基体表面平行且距离为h的面内AlxTi1-xCyN1-y粒子宽度的平均值为dh,则dh≤1.5μm。

5.根据权利要求1所述的涂层切削刀具,其特征在于,所述AlxTi1-xCyN1-y涂层的厚度为5μm~15μm,所述AlxTi1-xCyN1-y涂层的纳米硬度≥30GPa。

6.根据权利要求1~5中任一项所述的涂层切削刀具,其特征在于,所述AlxTi1-xCyN1-y涂层与所述刀具基体之间还设有硬质基底层,所述硬质基底层的厚度为0.5μm~8μm,所述硬质基底层包括TiN层、TiCN层和h-AlN层中的至少一层。

7.根据权利要求6所述的涂层切削刀具,其特征在于,所述硬质基底层的厚度为0.8μm~5μm。

8.根据权利要求1~5中任一项所述的涂层切削刀具,其特征在于,所述AlxTi1-xCyN1-y涂层的表面还设有硬质表面层,所述硬质表面层的厚度>1μm,所述硬质表面层包括TiN层、TiC层和TiCN层中的至少一层。

9.根据权利要求1~5中任一项所述的涂层切削刀具,其特征在于,所述AlxTi1-xCyN1-y涂层与所述刀具基体之间还设有硬质基底层,所述硬质基底层的厚度为0.5μm~8μm,所述硬质基底层包括TiN层、TiCN层和h-AlN层中的至少一层,所述AlxTi1-xCyN1-y涂层的表面还设有硬质表面层,所述硬质表面层的厚度>1μm,所述硬质表面层包括TiN层、TiC层和TiCN层中的至少一层。

10.一种如权利要求9所述的涂层切削刀具的制备方法,包括以下步骤:

(1)制备刀具基体;

(2)采用CVD工艺在所述刀具基体上沉积硬质基底层;

(3)采用低压CVD工艺在所述硬质基底层上沉积AlxTi1-xCyN1-y层,工艺条件包括:以两路气体管路将反应气体导入涂层炉,其中第一路气体管路中的混合物T1含有0.002vol%~1.0vol%的TiCl4、0.025vol%~2.0vol%的AlCl3、0.001vol%~0.7vol%的碳源和76vol%~86vol%的第一载气,所述碳源为乙腈、乙烷、乙烯和乙炔中的一种或多种,所述第一载气为氢气和/或氮气,第二路气体管路中的混合物T2含有0.03vol%~8.0vol%的N源和第二载气,所述N源为NH3和/或N2H4,所述第二载气为氢气和/或氮气,所述混合物T1与混合物T2的体积比为1~10∶1,沉积温度控制在650℃~910℃,沉积压力控制在1mbar~10mbar;

(4)采用CVD工艺在所述AlxTi1-xCyN1-y层上沉积硬质表面层。

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