[发明专利]一种半导体制程废气的燃烧处理装置

说明书

本发明公开了一种半导体制程废气的燃烧处理装置，其结构包括引导管道、上固定板、燃烧仓、固定座、输送管道，引导管道安装在上固定板上，并贯穿上固定板与燃烧仓相连接，燃烧仓设于固定座上，固定座上设有输送管道，输送管道与燃烧仓相通，本发明的有益效果：通过在燃烧仓内设立混气装置，使得废气燃烧时，杆轴旋转带动环杆随之旋转，并作用在活动环的子环上，使得环杆旋转的过程中会与活动环嵌合并准确推动活动环运动，进一步借助立板以及镂空状设立的拨动球，使得燃烧中的废气较为均匀，从而达到充分燃烧的目的。

技术领域

本发明涉及半导体领域，尤其是涉及到一种半导体制程废气的燃烧处理装置。

背景技术

半导体制程生产既可符合制程生产需求，又能兼顾工业安全，同时可为环保尽一份心力，而半导体制程产生的废气存在一定危害，并且会造成环境污染，因此需要对其进行处理，目前的半导体制程废气的燃烧处理装置具有以下缺陷：

现有的半导体制程废气燃烧处理装置通过在燃烧箱内设立陶瓷传热板，将进入的废气进行预热，使其燃烧更为充分，而经过陶瓷传热板时，上层废气热量低于与陶瓷传热板直接接触的废气热量，后续进行燃烧时燃烧箱内不同高度的废气燃烧温度并不均匀，从而无法充分燃烧。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明是通过如下的技术方案来实现：一种半导体制程废气的燃烧处理装置，其结构包括引导管道、上固定板、燃烧仓、固定座、输送管道，所述引导管道安装在上固定板上，并贯穿上固定板与燃烧仓相连接，所述燃烧仓设于固定座上，所述固定座上设有输送管道，所述输送管道与燃烧仓相通；

所述燃烧仓由衔接管、混气装置、延伸壁、上端口、滚筒、中心杆、混合腔、氧气进管构成，所述衔接管与混合腔相通，所述衔接管与输送管道相连接，所述混合腔内设有混气装置，所述混气装置安装在滚筒正南方向上，所述滚筒中间被中心杆贯穿，所述中心杆的两端固定在延伸壁上，所述延伸壁固定安装在上端口内侧上，所述上端口与混合腔相通，所述氧气进管与混合腔相通，所述中心杆与外机械力相连接，从而可以带动滚筒旋转。

作为本发明的进一步优化，所述混气装置由固定块、固定环、旋转杆、活动环、旋转环构成，所述固定块设有两个，并且呈对称结构安装在混合腔内壁上，所述固定环内设有活动环，所述活动环中央被旋转杆贯穿并固定在固定环上，所述固定环与固定块固定连接，所述旋转环与固定环相配合，所述旋转环与活动环相配合，所述旋转环与固定块相连接。

作为本发明的进一步优化，所述滚筒由三个以上的拨板以中心杆为圆心等距分布，拨板上设有网孔，便于气体可以通过。

作为本发明的进一步优化，所述旋转环由安装层、固定杆、环杆、杆轴构成，所述环杆呈椭圆状设立，所述安装层设于环杆上短轴所在的两端上，所述安装层与杆轴固定连接，所述杆轴贯穿固定杆，所述固定杆远离杆轴的一端与固定块固定连接。

作为本发明的进一步优化，所述固定环远离固定块的一端上设有镂空框，并且该镂空框的宽度刚好可以使得旋转环旋转的过程穿过，从而旋转环旋转之后可以穿过固定环并作用在活动环上。

作为本发明的进一步优化，所述环杆长轴所在的两端上均设有嵌合槽，该嵌合槽与活动环的环壁弧度相配合，使得环杆旋转的过程中会与活动环嵌合并准确推动活动环运动。

作为本发明的进一步优化，所述活动环由母环、子环、拨动杆、椭圆板、活动块、拨动球构成，所述母环与子环相连接，所述子环直径小于母环的直径，所述母环中央被旋转杆贯穿，所述拨动杆与拨动球固定连接，所述拨动杆、活动块分别设于椭圆板上相对的两端，所述拨动杆、活动块均与椭圆板机械连接，所述椭圆板设有两个。