[发明专利]尾气处理装置及半导体设备

权利要求书

1.一种尾气处理装置，用于半导体反应腔室的尾气处理，包括：位于所述反应腔室外部且与所述反应腔室连通的低压排气支路、常压排气支路和尾气处理单元；

所述低压排气支路上设置有低压控制元件，且所述低压排气支路一端与所述反应腔室的尾气输出端连通，另一端连接至所述尾气处理单元，所述低压排气支路用于在低压工艺中通过所述低压控制元件将反应腔室内的工艺尾气排出至所述尾气处理单元，并使所述反应腔室内的气压维持在第一预设气压，所述第一预设气压小于常压；

所述常压排气支路设置有常压控制元件，且所述常压排气支路的一端与所述反应腔室的尾气输出端连通，另一端连接至所述尾气处理单元，所述常压排气支路用于在常压工艺中通过常压控制元件将反应腔室内的工艺尾气排出至所述尾气处理单元，并使所述反应腔室内的气压维持在第二预设气压，所述第二预设气压等于常压。

2.根据权利要求1所述的尾气处理装置，其特征在于，所述低压控制元件包括真空阀和真空泵，所述真空泵位于所述真空阀的下游并与所述尾气处理单元连通。

3.根据权利要求1所述的尾气处理装置，其特征在于，所述常压控制元件包括角阀和蝶阀，且所述蝶阀位于所述角阀和所述尾气处理单元之间。

4.根据权利要求1-3任一项所述的尾气处理装置，其特征在于，还包括气体稀释支路，所述气体稀释支路的一端与所述反应腔室的尾气输出端连通，所述稀释支路的另一端与稀释气体供应端连接，所述气体稀释支路用于向所述反应腔室的尾气输出端的管路内输入稀释气体，以降低所述工艺尾气的浓度或调整所述反应腔室的工艺尾气的气体流量。

5.根据权利要求4所述的尾气处理装置，其特征在于，所述气体稀释支路的所述一端至所述另一端之间依次设有第一气动阀、流量控制器、调压阀和手阀。

6.根据权利要求1所述的尾气处理装置，其特征在于，还包括用于检测反应腔室内压力的第一气压检测计和第二气压检测计，所述第一气压检测计通过支管与所述反应腔室的尾气输出端连通，且所述支管上设有第二气动阀，所述第二气压检测计与所述支管连通。

7.根据权利要求6所述的尾气处理装置，其特征在于，所述第二气压检测计的量程大于所述第一气压检测计的气的量程，且所述第一气压检测计的气压检测精度高于所述第二气压检测计的气压检测精度。

8.根据权利要求1所述的尾气处理装置，其特征在于，还包括泄压管路，用于当所述反应腔室内的气压大于预设值时将工艺尾气泄压排放至所述尾气处理单元；所述泄压管路的两端分别连通所述反应腔室的尾气输出端和所述尾气处理单元，所述泄压管路上设有第三气动阀和单向阀，且所述单向阀位于所述第三气动阀和所述尾气处理单元之间。

9.根据权利要求1所述的尾气处理装置，其特征在于，还包括尾气检测管路，用于在工艺结束后检测所述工艺尾气的浓度；所述尾气检测管路的两端分别与所述反应腔室的尾气输出端和所述尾气处理单元连通，所述尾气检测管路上设有第四气动阀和气体检测器，且所述气体检测器位于所述第四气动阀和所述尾气处理单元之间。

10.一种半导体设备，其特征在于，包括反应腔室以及如权利要求1-9任一项所述的尾气处理装置，所述尾气处理装置连接于所述反应腔室的尾气输出端，用于所述反应腔室的尾气处理。