[发明专利]一种宽幅线阵影像传感器在审

专利信息
申请号: 202010446485.2 申请日: 2020-05-25
公开(公告)号: CN111463227A 公开(公告)日: 2020-07-28
发明(设计)人: 李宏明;肖昌林;刘成名;肖建全 申请(专利权)人: 深圳市光太科技有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H04N5/369
代理公司: 北京方圆嘉禾知识产权代理有限公司 11385 代理人: 冯静
地址: 518000 广东省深圳市宝安区石岩*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 宽幅 影像 传感器
【说明书】:

发明涉及一种宽幅线阵影像传感器,包括电路板、线阵影像传感芯片和自聚焦透镜阵列,在电路板的上方沿长度方向交错地布置有多个自聚焦透镜阵列,相邻两个自聚焦透镜阵列的物端朝上,像端朝下,并且使相邻两个自聚焦透镜阵列的物线在同一条直线上而且是连续的;与自聚焦透镜阵列对应的线阵影像传感芯片贴装在电路板上,并且使自聚焦透镜阵列的像线完全覆盖与自聚焦透镜阵列对应的线阵影像传感芯片的感光中心线,覆盖在相邻两个线阵影像传感芯片上的像线所对应的物线是连续的而且不重叠。本发明的宽幅线阵影像传感器采集的图像消除了像素重叠和线差的问题,使得图像无需软件拼接和补偿,降低了宽幅线阵影像传感器的制造成本和维护成本。

技术领域

本发明涉及线阵影像传感器领域,特别是涉及一种采用拼接方式制作的宽幅线阵影像传感器。

背景技术

线阵影像传感器主要由线阵影像传感芯片与透镜组合而成,传统的线阵影像传感器扫描幅度一般小于A3幅面,传感芯片可以无缝接续,但自聚焦透镜阵列很难无缝接续,幅度超过A3的整条自聚焦透镜阵列价格昂贵,因此宽幅线阵影像传感器都采用交错拼接方式来降低成本。传统的拼接方法具有部分像素重叠和步进方向上的线差等问题,需要通过软件拼接和补偿,每次维修更换都需要重新调试,维护成本高。因此,现有拼接方法存在需要软件拼接和补偿的问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种宽幅线阵影像传感器,解决了现有拼接方法需要软件拼接和补偿的问题。

为实现上述目的,本发明提供了如下方案:

一种宽幅线阵影像传感器,包括电路板、多个线阵影像传感芯片和多个自聚焦透镜阵列,多个所述自聚焦透镜阵列沿所述电路板的长度方向交错地布置在所述电路板的上方;

相邻两个所述自聚焦透镜阵列的物端朝上,像端朝下,使得相邻两个所述物端的光轴线成θ角,10°≤θ≤90°,并且使相邻两个所述自聚焦透镜阵列的物线在同一条直线上而且是连续的;

多个所述线阵影像传感芯片贴装在所述电路板上,所述线阵影像传感芯片与所述自聚焦透镜阵列对应设置,并且使所述自聚焦透镜阵列的像线完全覆盖与所述自聚焦透镜阵列对应的所述线阵影像传感芯片的感光中心线,所述像线的长度大于或等于所述线阵影像传感芯片的长度,覆盖在相邻两个所述线阵影像传感芯片上的像线所对应的所述物线是连续的而且不重叠。

进一步的改进,相邻两个所述自聚焦透镜阵列的物端的光轴线成θ角,30°≤θ≤45°。

进一步的改进,所述线阵影像传感芯片为CMOS芯片。

进一步的改进,所述线阵影像传感芯片为CCD芯片。

根据本发明提供的具体实施例,本发明公开了以下技术效果:

本发明将多个所述自聚焦透镜阵列沿长度方向(x方向)交错地布置在所述电路板的上方,并且相邻两个所述自聚焦透镜阵列的物端朝上,像端朝下,相邻两个所述自聚焦透镜阵列的物端的光轴线沿x方向成θ角,10°≤θ≤90°,并且使相邻两个所述自聚焦透镜阵列的物线在同一条直线上而且是连续的,消除了线差;相邻两个所述自聚焦透镜阵列的像线完全覆盖了与自聚焦透镜阵列对应的线阵影像传感芯片的感光中心线,覆盖在相邻两个线阵影像传感芯片上的像线所对应的物线是连续的,但不重叠,消除了像素重叠,因此本发明的宽幅线阵影像传感器采集的图像消除了像素重叠和线差的问题,不需要软件拼接和补偿,降低了宽幅线阵影像传感器的制造成本和维护成本,提高了图像质量。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明宽幅线阵影像传感器的原理示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市光太科技有限公司,未经深圳市光太科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010446485.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top