[发明专利]一种真空镀膜工艺及装置有效
申请号: | 202010447499.6 | 申请日: | 2020-05-25 |
公开(公告)号: | CN111593314B | 公开(公告)日: | 2022-04-19 |
发明(设计)人: | 赵池平;李辉 | 申请(专利权)人: | 宁波大榭开发区佳洁锌铸件有限公司 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50 |
代理公司: | 北京君恒知识产权代理有限公司 11466 | 代理人: | 郑黎明 |
地址: | 315000 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 真空镀膜 工艺 装置 | ||
本发明公开了一种真空镀膜工艺及装置,包括步骤一:将产品放入超声波清洗槽中进行表面清洗;步骤二等步骤,此真空镀膜工艺及装置,通过在真空镀膜机本体底端的两个导轨之间设有的拉动导向装置,从而可以对产品进行镀膜时,可以便于转盘底端的两个导向板进行导向定位的作用,使转盘底端的两个导向板稳定的连接入导轨内部,实现转盘与真空镀膜机本体的稳定快速连接,同时连接后的转盘在升降小车的支撑下以及在拉动导向装置的驱动下,能够使转盘通过两个导向板自动沿着真空镀膜机本体内部进行稳定移动,并将转盘底端的阳极连接件与真空镀膜机上的阳极进行稳定连接的作用,有效防止阳极受力过大而损坏或受力过小而无法稳定通电连接的问题。
技术领域
本发明涉及真空镀膜技术领域,具体为一种真空镀膜工艺及装置。
背景技术
真空镀膜设备工作原理是膜体在高温下蒸发落在工件表面结晶。由于空气对蒸发的膜体分子会铲生阻力造成碰撞使结晶体变得粗糙无光,所以必须在高真空下才能使结晶体细密光亮,如果真空度不高结晶体就会失去光泽结合力也很差。早期真空镀膜设备是依靠蒸发体自然散射,结合差工效低光泽差。现在加上中频磁控溅射靶用磁控射靶将膜体的蒸发分子在电场的作用下加速轰击靶材,溅射出大量的靶材原子,中性的靶原子(或分子)沉积在基片上成膜,解决了过去自然蒸发无法加工的膜体品种,如镀钛镀锆等等。
目前,现有产品在进行真空镀膜时,首先需要将清洗好的产品挂在转盘上的挂架上,随后,通过升降小车,将转盘对准真空镀膜机底端的导轨实现连接的作用,然而现有的转盘与真空镀膜机之间连接时,需要一个人控制升降小车的高度以及位置,另一个人对转盘与真空镀膜机之间进行测量导向,一方面存在耗费人力,另一方面与真空镀膜机底端导轨连接的位置位于转盘底端,不便于人工观察,进而影响产品镀膜效率,同时在转盘与真空镀膜机连接后,需要人工手动将转盘推入真空镀膜机中,且在推入的过程中,无法控制对转盘的推动力,容易导致转盘推动力过大而导致真空镀膜机中与转盘接触的阳极损坏的现象,而当推入力过小,则容易存在转盘底端与真空镀膜机中的阳极无法紧密接触的现象,进一步的影响产品的加工,为此,我们提出一种真空镀膜工艺及装置。
发明内容
本发明的目的在于提供一种真空镀膜工艺及装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种真空镀膜工艺,包括以下步骤:
步骤一:将产品放入超声波清洗槽中进行表面清洗;
步骤二:将清洗后的产品表面进行烘干处理;
步骤三:将干燥后的产品依次挂在转盘上的固定件上,再通过升降车将转盘上的若干个推送至烘箱内部进行预热15分钟,随后,通过升降车将预热后的产品推送至至真空镀膜机处,且真空镀膜机底端设有便于转盘与真空镀膜机底端稳定连接导向的拉动导向装置,使转盘底端的阳极连接件与真空镀膜机内部的阳极连接,实现通电,同时转盘在其底端的旋转结构转动下带动转盘上方的产品进行旋转;
步骤四:真空镀膜机中进行边加热边抽真空,同时在真空镀膜机中的真空度达到所需气压和温度后,往真空镀膜机中充入惰性气体,导入弧电流镀彩色底膜,根据彩色底膜的颜色要求调节电弧和时间;
步骤五:当真空镀膜机镀膜结束后,其内部冷却一段时间后,完成对产品的镀膜。
一种真空镀膜装置,包括真空镀膜机本体、设置在真空镀膜机本体内部底端的导轨、转盘和设置在转盘底端的导向板,其特征在于:两个所述导轨上设有对两个导向板进行拉动的拉动导向装置。
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