[发明专利]格栅标准样片测量方法、装置及终端设备有效
申请号: | 202010447868.1 | 申请日: | 2020-05-25 |
公开(公告)号: | CN111652860B | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 张晓东;梁法国;李锁印;韩志国;赵琳;冯亚南;许晓青 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十三研究所 |
主分类号: | G06T7/00 | 分类号: | G06T7/00;G06T7/11;G06T3/40 |
代理公司: | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人: | 秦敏华 |
地址: | 050051 *** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 格栅 标准 样片 测量方法 装置 终端设备 | ||
本发明提供了一种格栅标准样片测量方法、装置及终端设备,该方法包括:基于预设间隔对格栅标准样片的平面区域进行划分,得到多个样片区域;获取多个样片区域的多个扫描图像,并对多个扫描图像进行图像拼接,得到样片图像;其中,多个扫描图像由关键尺寸扫描电镜系统对多个样片区域扫描得到;基于关键尺寸扫描电镜系统的透镜阵列建立笛卡尔坐标系,并基于样片图像确定格栅标准样片中第一预设标志点和第二预设标志点在笛卡尔坐标系中的坐标;基于第一预设标志点和第二预设标志点在笛卡尔坐标系中的坐标确定格栅标准样片的长度。本发明提供的格栅标准样片测量方法、装置及终端设备能够有效扩大关键尺寸扫描电镜的测量视场。
技术领域
本发明属于微电子计量测试技术领域,更具体地说,是涉及一种格栅标准样片测量方法、装置及终端设备。
背景技术
在芯片制造领域,存在大量几何量工艺参数,如线宽与线长等。随着半导体器件特征参数的日益缩减,几何量尺寸越来越成为衡量半导体工艺水平的重要参数。因此,格栅标准样片应运而生,用来校准关键尺寸扫描电镜等微纳尺寸测量类仪器。但是,在高倍率情况下,格栅特征超出了电镜测量系统视场,进而影响了测量性能。
发明内容
本发明的目的在于提供一种格栅标准样片测量方法、装置及终端设备,以扩大关键尺寸扫描电镜的测量视场。
本发明实施例的第一方面,提供了一种格栅标准样片测量方法,包括:
基于预设间隔对格栅标准样片的平面区域进行划分,得到多个样片区域;
获取所述多个样片区域的多个扫描图像,并对所述多个扫描图像进行图像拼接,得到样片图像;其中,所述多个扫描图像由关键尺寸扫描电镜系统对所述多个样片区域扫描得到;
基于所述关键尺寸扫描电镜系统的透镜阵列建立笛卡尔坐标系,并基于所述样片图像确定格栅标准样片中第一预设标志点和第二预设标志点在笛卡尔坐标系中的坐标;
基于第一预设标志点和第二预设标志点在笛卡尔坐标系中的坐标确定格栅标准样片的长度。
本发明实施例的第二方面,提供了一种格栅标准样片测量装置,包括
区域划分模块,用于基于预设间隔对格栅标准样片的平面区域进行划分,得到多个样片区域;
图像扫描模块,用于获取所述多个样片区域的多个扫描图像,并对所述多个扫描图像进行图像拼接,得到样片图像;其中,所述多个扫描图像由关键尺寸扫描电镜系统对所述多个样片区域扫描得到;
图像定位模块,用于基于所述关键尺寸扫描电镜系统的透镜阵列建立笛卡尔坐标系,并基于所述样片图像确定格栅标准样片中第一预设标志点和第二预设标志点在笛卡尔坐标系中的坐标;
样片测量模块,用于基于第一预设标志点和第二预设标志点在笛卡尔坐标系中的坐标确定格栅标准样片的长度。
本发明实施例的第三方面,提供了一种终端设备,包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序,所述处理器执行所述计算机程序时实现上述的格栅标准样片测量方法的步骤。
本发明实施例的第四方面,提供了一种计算机可读存储介质,所述计算机可读存储介质存储有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时实现上述的格栅标准样片测量方法的步骤。
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