[发明专利]幕布的制备方法、装置、设备及存储介质有效
申请号: | 202010449877.4 | 申请日: | 2020-05-25 |
公开(公告)号: | CN113721418B | 公开(公告)日: | 2023-06-09 |
发明(设计)人: | 黄中琨;任建平;覃勇;陈艳 | 申请(专利权)人: | 深圳市汉森软件有限公司 |
主分类号: | G03B21/60 | 分类号: | G03B21/60 |
代理公司: | 成都恪睿信专利代理事务所(普通合伙) 51303 | 代理人: | 陈兴强 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区航城街道鹤*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 幕布 制备 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
1.一种幕布的制备方法,其特征在于,所述方法包括:步骤S1:获取待打印吸光体在幕布基材上的分布位置信息;步骤S2:按照所述分布位置信息,在所述幕布基材上打印生成所述待打印吸光体,在对幕布基材的待打印面完成待打印吸光体的打印后,在待打印面上生成一层透射可见光的保护层,生成幕布显示面;步骤S1包括:步骤S11:获取所述待打印吸光体在所述待打印面上的占空比;步骤S12:获取墨点的尺寸参数,所述待打印吸光体包括由喷射在所述幕布基材待打印面上的墨滴固化形成的墨点,所述尺寸参数为所述墨点在所述幕布基材的待打印面上的尺寸参数;利用所述占空比和所述尺寸参数,获取所述各所述待打印吸光体在所述幕布基材的待打印面上的分布位置信息。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于步骤S11还包括:步骤S111:获取由所述幕布基材制备形成的幕布显示面的反光率;步骤S112:根据所述反光率,获取所述待打印吸光体在所述待打印面上的占空比。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤S12包括:根据所述占空比与所述墨点的尺寸参数,确定墨点密度,所述墨点密度为单位面积区域中的墨点数量;利用所述墨点密度,获取所述各所述墨点在所述幕布基材的待打印面上的分布位置信息。
4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,步骤S12还包括:利用半色调算法与所述墨点密度,获取所述各所述墨点在所述幕布基材的待打印面上的分布位置信息。
5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述墨点的高度为20微米-500微米;步骤S2包括:利用所述分布位置信息,在所述幕布基材上打印生成出高度为20微米-500微米的多个所述待打印吸光体。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述幕布基体的待打印面上设有多个所述待打印吸光体;步骤S2包括:步骤S27:针对所述幕布基材的待打印面上任一所述待打印吸光体,根据该待打印吸光体在所述幕布基材的待打印面上的分布位置信息,运行到该待打印吸光体在所述待打印面上的位置上方;步骤S28:向所述待打印面上该待打印吸光体所在位置处,喷射生成待打印吸光体的液体;步骤S29:对喷射的所述液体进行固化,以形成该待打印吸光体,进而在所述幕布基材上打印生成各所述待打印吸光体。
7.一种幕布的制备装置,其特征在于,所述装置包括:获取模块,用于获取待打印吸光体在幕布基材上的分布位置信息;打印模块,用于按照所述分布位置信息,在所述幕布基材上打印生成所述待打印吸光体,在对幕布基材的待打印面完成待打印吸光体的打印后,在待打印面上生成一层透射可见光的保护层,生成幕布显示面;
所述获取模块包括:获取所述待打印吸光体在所述待打印面上的占空比;获取墨点的尺寸参数,所述待打印吸光体包括由喷射在所述幕布基材待打印面上的墨滴固化形成的墨点,所述尺寸参数为所述墨点在所述幕布基材的待打印面上的尺寸参数;利用所述占空比和所述尺寸参数,获取所述各所述待打印吸光体在所述幕布基材的待打印面上的分布位置信息。
8.一种打印设备,其特征在于,所述设备包括:至少一个处理器;以及与所述至少一个处理器通信连接的存储器;其中,所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的指令,所述指令被所述至少一个处理器执行,以使至少一个所述处理器能够执行权利要求1-6任一项所述的方法。
9.一种计算机存储介质,其上存储有计算机程序指令,其特征在于,当所述计算机程序指令被处理器执行时实现如权利要求1-6中任一项所述的方法。
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