[发明专利]ITO薄膜在审

专利信息
申请号: 202010451500.2 申请日: 2020-05-25
公开(公告)号: CN111763911A 公开(公告)日: 2020-10-13
发明(设计)人: 宋世金;朱刘;任丽 申请(专利权)人: 先导薄膜材料(广东)有限公司
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/02;C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 511517 广东省清*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: ito 薄膜
【权利要求书】:

1.一种ITO薄膜,其特征在于:其包括变温缓冲层和取向生长层。

2.根据权利要求1 所述的ITO薄膜,其特征在于:所述取向生长层沿着变温缓冲层所确定的取向生长而成。

3.根据权利要求1 所述的ITO薄膜,其特征在于:所述变温缓冲层为ITO多晶薄膜同质缓冲层。

4.根据权利要求1 所述的ITO薄膜,其特征在于:所述变温缓冲层为(004)择优取向。

5.根据权利要求1 所述的ITO薄膜,其特征在于:所述变温缓冲层的厚度为20-100 nm。

6.根据权利要求1 所述的ITO薄膜,其特征在于:所述变温缓冲层在300K温度下的载流子浓度为1E18-1E22 cm-3、电子迁移率为20-50 cm2/Vs。

7.根据权利要求1 所述的ITO薄膜,其特征在于:所述变温缓冲层在300K温度下的可见光平均透过率为85%-95%。

8.根据权利要求1 所述的ITO薄膜,其特征在于:所述取向生长层的厚度为20-1000nm。

9.根据权利要求1 所述的ITO薄膜,其特征在于:所述取向生长层在300K下的载流子浓度为1E18-1E22 cm-3、电子迁移率为20-50 cm2/Vs。

10.根据权利要求1 所述的ITO薄膜,其特征在于:所述取向生长层在300K下的可见光平均透过率为85%-95%。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于先导薄膜材料(广东)有限公司,未经先导薄膜材料(广东)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010451500.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top