[发明专利]壳体、壳体的制备方法及电子设备

权利要求书

1.一种壳体，其特征在于，包括塑胶壳体本体，所述塑胶壳体本体的表面具有多个尖状凸起结构，其中，所述壳体还包括硬化层，所述硬化层设置在所述塑胶壳体本体具有所述尖状凸起结构的一侧表面，所述硬化层的厚度小于尖状凸起结构的高度，使得在硬化层的表面仍然可以触摸到尖状凸起结构，其中，所述壳体还包括装饰膜，所述装饰膜设置在所述塑胶壳体本体背向所述尖状凸起结构的一侧表面，所述装饰膜包括UV纹理层和镀膜层。

2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述塑胶壳体本体具有所述尖状凸起结构的表面的粗糙度Ra为2.5μm-3.5μm。

3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述尖状凸起结构为微米级结构，所述尖状凸起结构的高度为14μm-30μm，所述尖状凸起结构的分布密度为500个/cm²-2000个/cm²。

4.如权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述尖状凸起结构包括棱锥结构、类棱锥结构和圆锥结构中的至少一种。

5.如权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述塑胶壳体本体经注塑成型。

6.如权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述硬化层的厚度为4μm-30μm。

7.如权利要求1所述的壳体，其特征在于，还包括装饰膜，所述装饰膜还包括颜色层。

8.如权利要求6所述的壳体，其特征在于，所述装饰膜还包括衬底层，所述衬底层设置在所述UV纹理层、镀膜层和颜色层中的至少一层与所述塑胶壳体本体之间。

9.一种壳体的制备方法，其特征在于，包括：

提供注塑模具，所述注塑模具包括对应设置的公模和母模，所述母模靠近所述公模的表面具有多个凹陷结构；

将所述公模和所述母模合模，所述公模和所述母模之间形成注塑空间；

将塑胶注入所述注塑空间中，经注塑成型工艺得到塑胶壳体本体，所述塑胶壳体本体的表面具有多个与所述凹陷结构相匹配的尖状凸起结构；

所述方法还包括：

在所述塑胶壳体本体具有所述尖状凸起结构的表面涂覆硬化液，经固化后形成硬化层，其中，所述硬化层的厚度小于尖状凸起结构的高度，使得在硬化层的表面仍然可以触摸到尖状凸起结构；

在所述塑胶壳体本体背向所述尖状凸起结构的一侧表面成型装饰膜，所述装饰膜包括UV纹理层和镀膜层。

10.如权利要求9所述的制备方法，其特征在于，通过镭雕在所述母模的表面成型所述凹陷结构，所述镭雕的参数包括10W-50W的功率、50HZ-100HZ的频率、170mm-180mm的焦距、0.10mm-0.12mm的线宽、750mm/s-1000mm/s的光点移动速度、900mm/s-2000mm/s的跳转速度。

11.如权利要求10所述的制备方法，其特征在于，所述镭雕包括先进行粗加工，再进行精加工，其中，所述粗加工的参数包括20W-50W的功率、50HZ-70HZ的频率、750mm/s-850mm/s的光点移动速度、900mm/s-1200mm/s的跳转速度，所述精加工的参数包括10W-15W的功率、80HZ-100HZ的频率、900mm/s-1000mm/s的光点移动速度、1500mm/s-2000mm/s的跳转速度。

12.如权利要求10所述的制备方法，其特征在于，还包括对所述镭雕后的所述母模进行喷砂处理，所述喷砂包括采用6mm-10mm口径的喷枪，在1公斤/cm²-3公斤/cm²喷枪气压下，喷涂160目-200目的砂粒。

13.如权利要求12所述的制备方法，其特征在于，经所述喷砂后，所述母模的光泽度为15-25。