[发明专利]一种旋转靶的制备方法及其喷涂设备

权利要求书

1.一种旋转靶的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：在基材表面均匀涂布金属铟形成铟涂层；

S2：在惰性保护气氛环境下熔炼低熔点金属获得金属熔体；

S3：使用步骤S2中获得的金属熔体，在惰性保护气氛环境下均匀喷涂到步骤S1中获得的基材表面得到靶材。

2.根据权利要求1所述的旋转靶的制备方法，其特征在于，S1中，对步骤S3中获得的靶材进行表面合金化热处理。

3.根据权利要求1所述的旋转靶的制备方法，其特征在于，步骤S3中，所述基材在喷涂过程中相对喷涂设备喷嘴以20－70mm/min的速度往复移动，且所述基材以60－150r/min的速度自转。

4.一种旋转靶喷涂设备，其特征在于，包括：

熔炼炉；

加热装置，用于加热所述熔炼炉；

喷涂装置，包括喷嘴和熔体输送管道；

其中，所述喷嘴包括熔体管道以及套设于所述熔体管道外侧的气体管道，所述熔体管道的外侧壁与所述气体管道的内侧壁之间形成喷气间隙，所述熔体管道通过所述熔体输送管道与所述熔炼炉连通。

5.根据权利要求4所述的旋转靶喷涂设备，其特征在于，所述熔炼炉安装有用于置换炉内气体的开关组件。

6.根据权利要求5所述的旋转靶喷涂设备，其特征在于，所述开关组件包括真空阀和进气阀。

7.根据权利要求4所述的旋转靶喷涂设备，其特征在于，所述加热装置包括加热箱体和加热单元，所述熔炼炉设置于所述加热箱体内，所述加热单元设置于所述加热箱体内用于加热所述熔炼炉。

8.根据权利要求4所述的旋转靶喷涂设备，其特征在于，所述熔体输送管道设有用于调节熔体流量的熔体调节阀。

9.根据权利要求4所述的旋转靶喷涂设备，其特征在于，所述气体管道连接有气体输送管道，所述气体输送管道上设有气体调节阀。

10.根据权利要求4所述的旋转靶喷涂设备，其特征在于，所述喷气间隙的宽度为0.5－1mm，所述熔体管道的开口端管径为1－3mm。