[发明专利]一种稳定嵌段共聚物胶束模板法制备的材料表面金属纳米阵列的方法

权利要求书

1.一种稳定嵌段共聚物胶束模板法制备的材料表面金属纳米阵列的方法，其特征在于，包括以下步骤：

I、配置包载金属前驱体的嵌段共聚物的胶束溶液；

II、在材料表面制备包载金属前驱体的胶束阵列；

III、用等离子体清洗仪去除所述材料表面的嵌段共聚物构成的胶束模板；

IV、用还原性溶剂浸泡还原上述材料。

2.根据权利要求1所述的一种稳定嵌段共聚物胶束模板法制备的材料表面金属纳米阵列的方法，其特征在于，所述步骤I中的金属前驱体是氯金酸、氯铂酸铱、氯铑酸、氯钯酸、氯铱酸或氯锇酸。

3.根据权利要求2所述的一种稳定嵌段共聚物胶束模板法制备的材料表面金属纳米阵列的方法，其特征在于，所述步骤I中的嵌段共聚物为聚苯乙烯-嵌段-聚乙烯基吡啶PS-b-P2VP，且所述PS-b-P2VP的分子量为19500～290000g/mol，分子量分散指数小于1.5；所述嵌段共聚物的胶束溶液的溶剂为无水甲苯、无水邻二甲苯中的一种，且所述嵌段共聚物的胶束溶液浓度大于其对应的临界胶束浓度。

4.根据权利要求3所述的一种稳定嵌段共聚物胶束模板法制备的材料表面金属纳米阵列的方法，其特征在于，所述步骤I中金属前驱体与聚乙烯基吡啶P2VP的单体单元的摩尔比为0.5:1。

5.根据权利要求1所述的一种稳定嵌段共聚物胶束模板法制备的材料表面金属纳米阵列的方法，其特征在于，所述步骤II中的材料包括石英玻璃、普通玻璃、硅、金属中的一种。

6.根据权利要求5所述的一种稳定嵌段共聚物胶束模板法制备的材料表面金属纳米阵列的方法，其特征在于，所述步骤II中的材料表面胶束阵列制备方法为浸渍提拉法。

7.根据权利要求1所述的一种稳定嵌段共聚物胶束模板法制备的材料表面金属纳米阵列的方法，其特征在于，所述步骤III中的等离子体清洗使用的气体为氧气、氮气中的一种或多种。

8.根据权利要求1所述的一种稳定嵌段共聚物胶束模板法制备的材料表面金属纳米阵列的方法，其特征在于，所述步骤IV中的还原性溶剂包括硼氢化物、柠檬酸钠、酒石酸钾、胺类化合物、抗坏血酸、无水乙醇中的一种或多种。

9.根据权利要求1所述的一种稳定嵌段共聚物胶束模板法制备的材料表面金属纳米阵列的方法，其特征在于，所述步骤I中的金属前驱体是氯金酸，所述步骤IV中的还原性溶剂是无水乙醇。

10.根据权利要求1所述的一种稳定嵌段共聚物胶束模板法制备的材料表面金属纳米阵列的方法，其特征在于，包括以下步骤：

I、配置包载氯金酸的聚苯乙烯-嵌段-聚乙烯基吡啶PS-b-P2VP的胶束溶液；

II、在材料表面采用浸渍提拉法制备包载氯金酸的聚苯乙烯-嵌段-聚乙烯基吡啶PS-b-P2VP阵列；

III、用等离子体清洗仪去除所述材料表面的聚苯乙烯-嵌段-聚乙烯基吡啶PS-b-P2VP构成的胶束模板；

IV、用无水乙醇浸泡还原上述材料。