[发明专利]一种窑变釉底釉及其制备方法、瓷器

权利要求书

1.一种窑变釉底釉，其特征在于，所述底釉的组分及各组分的质量百分比为：熔块70%~75%、高岭土5%~8%、氧化锌4%~7%、碳酸钡1%~2%、三氧化二铁10%~13%。

2.根据权利要求1所述的一种窑变釉底釉，其特征在于，所述底釉主要化学成分包括：SiO₂、Fe₂O₃、Al₂O₃、B₂O₃、Na₂O、ZnO、BaO、CaO、K₂O，所述底釉主要化学成分的重量百分比为：SiO₂ 45%~50%、Fe₂O₃ 10%~13%、Al₂O₃ 10%~12%、B₂O₃ 9%~11%、Na₂O 6%~8%、ZnO 4%~7%、BaO 1%~2%、CaO 1%~2%、K₂O 0.4%~1.2%。

3.根据权利要求2所述的一种窑变釉底釉，其特征在于，所述底釉主要化学成分包括：SiO₂、Fe₂O₃、Al₂O₃、B₂O₃、Na₂O、ZnO、BaO、CaO、K₂O，所述底釉主要化学成分的重量百分比为：SiO₂ 49.66%、Fe₂O₃ 11.16%、Al₂O₃ 10.95%、B₂O₃ 10.02%、Na₂O 7.53%、ZnO 5.06%、BaO1.85%、CaO 1.28%、K₂O 0.93%。

4.一种窑变釉底釉制备方法，用于制备权利要求1至3任一项所述的窑变釉底釉，其特征在于，所述方法包括步骤：

配比称重：按照底釉原料配方进行配比称重；

原料球磨：将配制好的底釉原料放入球磨机中，进行湿式球磨，制成底釉釉浆；

检测细度：检测所述底釉釉浆细度是否达到底釉釉浆阈值；

过筛：将所述底釉釉浆过筛，得到底釉釉料。

5.根据权利要求4所述的一种窑变釉底釉制备方法，其特征在于，所述原料球磨步骤具体包括：将配制好的底釉原料放入球磨机中，进行湿式球磨，球磨时间为16小时至18小时，制成底釉釉浆。

6.根据权利要求4或5所述的一种窑变釉底釉制备方法，其特征在于，所述底釉釉浆阈值为300目至325目。

7.根据权利要求6所述的一种窑变釉底釉制备方法，其特征在于，所述过筛步骤具体包括：将所述底釉釉浆过300目至325目的网筛，筛余小于0.2%，得到底釉釉料。

8.根据权利要求7所述的一种窑变釉底釉制备方法，其特征在于，所述底釉釉料的浓度为70%~75%。

9.一种窑变釉瓷器，其特征在于，所述瓷器包括坯体和如权利要求1至3任一项所述的窑变釉底釉。