[发明专利]甲基硅氧烷脱水除杂工艺及设备

权利要求书

1.一种甲基硅氧烷脱水除杂设备，包括锥底储罐、第一提纯分离器、第二提纯分离器和微孔过滤器，其特征在于，锥底储罐的出料口与第一提纯分离器的进料口通过虹吸结构管道连接，第一提纯分离器的出料口与第二提纯分离器的进料口通过管道连接，第二提纯分离器的出料口与微孔过滤器的进料口通过管道连接，微孔过滤器的出料口与锥底储罐通过管道连接。

2.根据权利要求1所述的甲基硅氧烷脱水除杂设备，其特征在于，第一提纯分离器与第二提纯分离器内部分别布置有密集螺旋型进料管。

3.根据权利要求2所述的甲基硅氧烷脱水除杂设备，其特征在于，第一提纯分离器与第二提纯分离器分别安装有视镜。

4.根据权利要求1-3任一项所述的甲基硅氧烷脱水除杂设备，其特征在于，第一提纯分离器与第二提纯分离器上设置有气体充压口。

5.根据权利要求1-3任一项所述的甲基硅氧烷脱水除杂设备，其特征在于，第一提纯分离器、第二提纯分离器和微孔过滤器底部分别设置有排液口。

6.一种甲基硅氧烷脱水除杂工艺，其特征在于，采用权利要求1-5任一项所述的甲基硅氧烷脱水除杂设备，按如下步骤进行：

1)将甲基硅氧烷原料置于锥底储罐内充分混合后静置，依据静力平衡学及虹吸原理，将甲基硅氧烷原料由锥底储罐送入第一提纯分离器；

2)通过第一提纯分离器加速分离，静置后从第一提纯分离器底部排出水分及机械杂质，得到初步脱水除杂的甲基硅氧烷；

3)对第一提纯分离器进行气体充压，将初步脱水除杂的甲基硅氧烷压送至第二提纯分离器，通过第二提纯分离器加速分离，静置后从第二提纯分离器底部排出水分及机械杂质，得到二次脱水除杂的甲基硅氧烷；

4)对第二提纯分离器进行气体充压，将二次脱水除杂的甲基硅氧烷压送至微孔过滤器，经微孔过滤器过滤掉微小机械杂质后，将甲基硅氧烷送至锥底储罐，得到高纯甲基硅氧烷。

7.根据权利要求6所述的甲基硅氧烷脱水除杂工艺，其特征在于，步骤2)通过第一提纯分离器中密集螺旋型进料管加速分离，步骤3)初步脱水除杂的甲基硅氧烷通过第二提纯分离器中密集螺旋型进料管加速分离。

8.根据权利要求7所述的甲基硅氧烷脱水除杂工艺，其特征在于，步骤1)中甲基硅氧烷原料置于锥底储罐内充分混合时间为4h，静置时间为8h。

9.根据权利要求8所述的甲基硅氧烷脱水除杂工艺，其特征在于，步骤2)中静置时间为1-3h。

10.根据权利要求9所述的甲基硅氧烷脱水除杂工艺，其特征在于，步骤3)中采用氮气对第一提纯分离器进行气体充压至0.15-0.5MPa，脱水除杂的甲基硅氧烷在第二提纯分离器中静置时间为3-9h。