[发明专利]一种具有亚波长光栅反射镜的紫外发光二极管在审

专利信息
申请号: 202010461449.3 申请日: 2020-05-27
公开(公告)号: CN111628057A 公开(公告)日: 2020-09-04
发明(设计)人: 张雄;罗旭光;崔一平 申请(专利权)人: 东南大学
主分类号: H01L33/10 分类号: H01L33/10
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 王安琪
地址: 211189 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 波长 光栅 反射 紫外 发光二极管
【权利要求书】:

1.一种具有亚波长光栅反射镜的紫外发光二极管,其特征在于,包括:由上而下依次设置的衬底(101)、AlN成核层(102)、非掺杂AlGaN缓冲层(103)、n型AlGaN层(104)、AlxGa(1-x)N/AlyGa(1-y)N多量子阱层(105)、AlGaN电子阻挡层(106)、p型AlGaN层(107),在p型AlGaN层(107)下方设置p型欧姆电极(108),并在p型AlGaN层(107)的其余位置刻蚀亚波长光栅反射镜(1071),在n型AlGaN层(104)下方设置n型欧姆电极(109),在p型欧姆电极(108)和n型欧姆电极(109)正下方分别设置两个凸点(110),在两个凸点(110)下设置基座(111)。

2.如权利要求1所述的具有亚波长光栅反射镜的紫外发光二极管,其特征在于,所述衬底(101)为可外延生长GaN基材料的蓝宝石、硅、碳化硅、氧化锌、氮化铝、氮化镓衬底中的任意一种。

3.如权利要求1所述的具有亚波长光栅反射镜的紫外发光二极管,其特征在于,所述AlN成核层(102)的厚度为5~30nm;所述非掺杂AlGaN缓冲层(103)的厚度为50~5000nm;所述n型AlGaN层(104)的厚度为200~5000nm;所述AlxGa(1-x)N/AlyGa(1-y)N多量子阱层(105)具有3~50对量子阱,量子阱的阱厚度为1~10nm,量子阱的势垒厚度为5~30nm;所述AlGaN电子阻挡层(106)的厚度为2~30nm;所述p型AlGaN层(107)的厚度为200~2000nm。

4.如权利要求1所述的具有亚波长光栅反射镜的紫外发光二极管,其特征在于,所述的在p型AlGaN层(107)下表面刻蚀形成的亚波长光栅反射镜(1071)是一维条形光栅或者二维矩形光栅结构;一维条形光栅结构图形深度为400~700nm,条形宽度为50~200nm,周期长度为100~300nm;二维矩形光栅结构图形深度为400~700nm,矩形的边长为50~200nm,周期长度为100~300nm,且光栅周期长度小于多量子阱发射的紫外光波长。

5.如权利要求1所述的具有亚波长光栅反射镜的紫外发光二极管,其特征在于,所述p型欧姆电极(108)和n型欧姆电极(109)的材料为Ni、Al、In、Au或Ti中的任何一种金属或上述金属中任意几种金属组成的合金材料,凸点(110)的材料选择Au,基座(111)的材料选择二维陶瓷基板。

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