[发明专利]一种调光膜及其制备方法在审
| 申请号： | 202010462047.5 | 申请日： | 2020-05-27 |
| 公开（公告）号： | CN111505748A | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | 刘世琴;胡业新;于佩强;高毓康 | 申请（专利权）人： | 江苏日久光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/14 | 分类号： | G02B1/14;G02B1/10;B32B33/00;B32B27/36;B32B27/32;C23C14/35;C23C14/20;C23C14/08 |
| 代理公司： | 苏州科仁专利代理事务所(特殊普通合伙) 32301 | 代理人： | 郭杨 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 调光 及其 制备 方法 | ||
1.一种调光膜，包括基材层（10）、起导电功能的ITO镀层（14），其特征在于：所述基材层（10）的一面通过涂布工艺涂设有HC加硬层（11），所述基材层（10）的另一面通过涂布工艺涂设有IM加硬层（12），在所述HC加硬层（11）或者所述IM加硬层（12）上通过磁控溅射工艺镀有硅镀层（13），所述ITO镀层（14）通过磁控溅射工艺镀在所述硅镀层（13）上。
2.根据权利要求1所述的一种调光膜，其特征在于：所述硅镀层（13）的厚度为5-10nm。
3.根据权利要求2所述的一种调光膜，其特征在于：所述ITO镀层（14）的厚度为40-60nm。
4.根据权利要求3所述的一种调光膜，其特征在于：所述HC加硬层（11）的厚度为1-2um,所述IM加硬层（12）的厚度为700-800nm。
5.根据权利要求4所述的一种调光膜，其特征在于：所述硅镀层（13）覆盖于所述IM加硬层（12）上，所述HC加硬层（11）上贴覆有PET保护膜（16），厚度为30-125um。
6.根据权利要求5所述的一种调光膜，其特征在于：所述ITO镀层（13）上贴覆有CPP保护膜（15），厚度为40-125um。
7.根据权利要求1所述的一种调光膜，其特征在于：所述基材层（10）为聚对苯二甲酸乙二酯薄膜、聚酰亚胺薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚甲基丙烯酸甲酯薄膜、聚脂塑料薄膜、环氧塑料薄膜中的一种。
8.根据权利要求1所述的一种调光膜，其特征在于：所述基材层（10）为聚对苯二甲酸乙二酯薄膜, 厚度为50um、100um、125um或188um，透光率在90%以上。
9.一种制备权利要求6所述一种调光膜的方法，其特征在于：包括以下步骤：
步骤一：在所述基材层（10）的一面通过涂布工艺涂设HC加硬层（11）；
步骤二：在所述基材层（10）的另一面通过涂布工艺涂设IM加硬层（12）；
步骤三：在所述HC加硬层（11）上贴覆PET保护膜（16）；
步骤四：在所述IM加硬层（12）上通过磁控溅射工艺镀设所述硅镀层（13）；
步骤五：在所述硅镀层（13）上通过磁控溅射工艺镀设所述ITO镀层（14）；
步骤六：在所述ITO镀层（14）上贴覆CPP保护膜（15），制作完成。
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