[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，其特征在于，包括：

衬底基板；

发光结构层，位于所述衬底基板的一侧，所述发光结构层包括多个发光单元；

封装结构层，位于所述发光结构层背离所述衬底基板的一侧；

反射层，位于所述封装结构层背离所述衬底基板的一侧；

亲水材料层，位于所述反射层背离所述衬底基板的一侧；

光学胶层，位于所述亲水材料层背离所述衬底基板的一侧；

所述亲水材料层的材质包括硅系超亲水性氧化物，或者，所述亲水材料层的材质包括具有亲水性的有机胶体；

所述显示基板包括显示区、位于显示区外围的边框区和绑定区，所述亲水材料层和所述反射层位于显示区、边框区和绑定区，所述反射层还开设有位于绑定区、用于暴露出绑定区的绑定焊垫的第一暴露孔，所述亲水材料层开设有位于绑定区、用于暴露出绑定区的绑定焊垫的第二暴露孔。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述亲水材料层的厚度为1200埃至1700埃。

3.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述亲水材料层在所述衬底基板上的正投影包含所述反射层在所述衬底基板上的正投影，所述反射层在所述衬底基板上的正投影包含所述封装结构层在所述衬底基板上的正投影。

4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述反射层开设有位于显示区且与所述发光单元一一对应的透光孔。

5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述反射层的材料包括以下材料中的一种或多种：钼、铝、银、钛、氧化铟锡/银/氧化铟锡多层复合材料、钛/铝/钛多层复合材料。

6.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述反射层的厚度为0.25μm至0.4μm。

7.根据权利要求1至6中任意一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括位于所述封装结构层和所述反射层之间的保护层，所述保护层的材质包括以下材料中的至少一种：氮化硅、氧化硅、氮化硅/氧化硅复合层。

8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述保护层的厚度为0.2μm至0.4μm。

9.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述保护层在所述衬底基板上的正投影包括所述封装结构层在所述衬底基板上的正投影。

10.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述封装结构层包括依次叠设在所述发光结构层背离所述衬底基板的一侧的第一无机封装层、有机封装层和第二无机封装层。

11.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述衬底基板包括基底结构层和位于所述基底结构层朝向所述发光结构层一侧的驱动结构层，所述基底结构层包括依次叠层设置的第一基底、第二基底、第三基底和缓冲层，所述驱动结构层位于所述缓冲层背离所述第一基底的一侧，所述第一基底、第二基底、第三基底均包括以下材料中的至少一种：压敏胶、聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二酯、经表面处理的聚合物软膜。

12.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1至11中任意一项所述的显示基板。