[发明专利]一种转移承载装置及转移方法在审
申请号: | 202010465382.0 | 申请日: | 2020-05-28 |
公开(公告)号: | CN112992756A | 公开(公告)日: | 2021-06-18 |
发明(设计)人: | 李强;许时渊 | 申请(专利权)人: | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683;H01L33/48 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 熊永强 |
地址: | 402760 重庆市璧*** | 国省代码: | 重庆;50 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 转移 承载 装置 方法 | ||
1.一种转移承载装置,其特征在于,包括:
光源模块;
光调制模块,设置在所述光源模块的出光侧;所述光调制模块包括入光面、多个光控区域和出光面;所述入光面靠近所述出光侧,所述出光面远离所述出光侧,所述光控区域设置在所述入光面和出光面之间;
多个转移元件,所述转移元件包括第一表面和第二表面;所述转移元件设置在所述出光面上,其中所述转移元件的第一表面与所述光调制模块的出光面接触,所述转移元件的第二表面用于放置待转移的微元件。
2.如权利要求1所述的转移承载装置,其特征在于,所述待转移微元件的投影面积为S3,所述转移元件的投影面积为S2,所述光控区域的投影面积为S1,满足S1≥S2≥S3。
3.如权利要求1所述的转移承载装置,其特征在于,所述光源模块包括:光源和光学透镜,所述光源设置在所述光学透镜的焦点上。
4.如权利要求1所述的转移承载装置,其特征在于,所述转移元件包括光致变形转移元件。
5.如权利要求4所述的转移承载装置,其特征在于,所述光致变形转移元件至少包括以下之一:光膨胀转移元件、光收缩转移元件。
6.一种应用如权利要求1所述转移承载装置的转移方法,其特征在于,包括如下步骤:
将待转移的微元件放置在所述转移元件的第二表面上;
将目标基板与所述转移承载装置进行对位,使目标基板上的目标转移位置与所述待转移的微元件一一对准;
启动光源模块射出光线;
所述光线从所述光调制模块的入光面进入其光控区域;
控制进入预定光控区域的光线穿过所述光调制模块的出光面,改变相应转移元件的形状带动其上的微元件移动。
7.如权利要求6所述的转移方法,其特征在于,所述预定光控区域为与目标基板的目标转移位置对应的光控区域。
8.如权利要求7所述的转移方法,其特征在于,所述转移元件为光致膨胀转移元件;所述控制进入预定光控区域的光线穿过所述光调制模块的出光面,改变相应转移元件的形状带动其上的微元件移动步骤,包括:所述微元件向所述目标基板的目标转移位置移动。
9.如权利要求6所述的转移方法,其特征在于,所述预定光控区域为与目标基板的非目标转移位置对应的光控区域。
10.如权利要求9所述的转移方法,其特征在于,所述转移元件为光致收缩转移元件;
所述将目标基板与所述转移承载装置进行对位,使目标基板上的目标转移位置与所述待转移的微元件一一对准的步骤,包括:使目标基板上的目标转移位置与所述待转移的微元件贴靠;
所述控制进入预定光控区域的光线穿过所述光调制模块的出光面,改变相应转移元件的形状带动其上的微元件移动的步骤,包括:所述微元件远离所述目标基板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆康佳光电技术研究院有限公司,未经重庆康佳光电技术研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202010465382.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造